國產(chǎn)納米壓痕儀大載荷加載選件，大大強(qiáng)化了納米壓痕儀的應(yīng)用范圍。這個(gè)選件可以用于標(biāo)準(zhǔn)的 XP 加載模塊，將 G200 型納米壓痕儀的加載能力擴(kuò)展至 10N，可對(duì)陶瓷、金屬塊材和復(fù)合材料進(jìn)行力學(xué)表征。大載荷選件的巧妙設(shè)計(jì)，使得 G200 既避免了在低載荷的情況下犧牲儀器的載荷和位移精度，同時(shí)又保證了用戶在需要大加載力的測(cè)試時(shí)，通過鼠標(biāo)操作就可以在測(cè)試實(shí)驗(yàn)中進(jìn)行無縫加載裝置切換。
是一種準(zhǔn)確，靈活，使用方便的納米級(jí)機(jī)械測(cè)試儀器。 G200測(cè)量楊氏模量和硬度，包括從納米到毫米的六個(gè)數(shù)量級(jí)的形變測(cè)量。 該系統(tǒng)還可以測(cè)量聚合物，凝膠和生物組織的復(fù)數(shù)模量以及薄金屬膜的蠕變響應(yīng)（應(yīng)變率靈敏度）。 模塊化選項(xiàng)可適用于各種應(yīng)用：頻率特定測(cè)試，定量刮擦和磨損測(cè)試，集成的基于探頭的成像，高溫納米壓痕測(cè)試，擴(kuò)展負(fù)載容量高達(dá)10N和自定義測(cè)試。
國產(chǎn)納米壓痕儀主要功能：
電磁驅(qū)動(dòng)可實(shí)現(xiàn)高動(dòng)態(tài)范圍下力和位移測(cè)量。
用于成像劃痕，高溫納米壓痕測(cè)量和動(dòng)態(tài)測(cè)試的模塊化選項(xiàng)。
直觀的界面，用于快速測(cè)試設(shè)置; 只需幾個(gè)鼠標(biāo)點(diǎn)擊即可更改測(cè)試參數(shù)。
實(shí)時(shí)實(shí)驗(yàn)控制，簡(jiǎn)便的測(cè)試協(xié)議開發(fā)和 的熱漂移補(bǔ)償。
屢獲殊榮的高速“快速測(cè)試”選項(xiàng)，用于測(cè)量硬度和模量。
多功能成像功能，測(cè)量掃描和流程化測(cè)試方法，幫助快速得到結(jié)果。
簡(jiǎn)單快捷地確定壓頭面積函數(shù)和載荷框架剛度。
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