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2、打開(kāi)化學(xué)吸附儀主機(jī)電源，打開(kāi)操作軟件

3、在閥2接入氧氣，打開(kāi)閥2，閥7打向閥2，閥8打向放空，處理氣流量計(jì)調(diào)至40-60mL/min,進(jìn)行樣品升溫氧化，氧化溫度及時(shí)間視具體樣品而定

4、在閥1接入氬氣，閥7打向閥1，設(shè)定1、2號(hào)質(zhì)量流量計(jì)流速為30mL/min，放下加熱爐，降溫吹掃至加熱爐降至室溫

5、將閥1切至氫氬混合氣室溫吹掃5-10min，閥8打向TCD

6、打開(kāi)TCD，基線平穩(wěn)后升起加熱爐，開(kāi)始程序升溫

7、峰圖出完基線平穩(wěn)后，關(guān)閉TCD，關(guān)閉溫控器，降下加熱爐，保存數(shù)據(jù)

8、將閥1切至氬氣吹掃5-10min

9、關(guān)閉氣體，關(guān)閉化學(xué)吸附儀主機(jī)電源，關(guān)閉操作軟件