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箱式氣氛爐MXQ1400-50應用于電子元器件、新型材料及粉體材料的真空氣氛處理，材料在惰性氣氛環境下進行燒結。

箱式氣氛爐MXQ1600-30適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結、金屬零件淬火及...

箱式氣氛爐MXQ1600-40適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結、金屬零件淬火及...

箱式氣氛爐MXQ1600-50應用于電子元器件、新型材料及粉體材料的真空氣氛處理，材料在惰性氣氛環境下進行燒結。

箱式氣氛爐MXQ1700-30應用于電子元器件、新型材料及粉體材料的真空氣氛處理，材料在惰性氣氛環境下進行燒結。

箱式氣氛爐MXQ1700-40適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結、金屬零件淬火及...

箱式氣氛爐MXQ1700-50適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結、金屬零件淬火及...

單溫區管式爐MXG1200-60爐子用電動升降機可以傾斜到 30°，直流電機驅動石英管， 以0 - 7 RPM旋轉.，石英管尺寸：中間直徑10...

單溫區管式爐MXG1200-80爐子用電動升降機可以傾斜到 30°，直流電機驅動石英管， 以0 - 7 RPM旋轉.，石英管尺寸：中間直徑100mm，...

單溫區管式爐MXG1200-100爐子用電動升降機可以傾斜到30° ，直流電機驅動石英管，以0 - 7 RPM旋轉

單溫區管式爐MXG1400-60質硅碳棒（SiC）兩側加熱，封閉式，雙層結構，外殼與內膽間配有風冷系統，爐體表面溫度≤60℃，采用自動PID調節，溫控精度&am...

單溫區管式爐MXG1400-80質硅碳棒（SiC）兩側加熱，封閉式，雙層結構，外殼與內膽間配有風冷系統，爐體表面溫度≤60℃，采用自動PID調節，溫控精度
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單溫區管式爐MXG1600-60采用自動PID調節，溫控精度±1℃，可抽真空，可充氣體，是專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦...

單溫區管式爐MXG1600-80采用自動PID調節，溫控精度±1℃，可抽真空，可充氣體，是專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業在可控多種氣...

單溫區管式爐MXG1700-60爐膛采用自動PID調節，溫控精度±1℃，可抽真空，可充氣體，是專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業在可控多種氣氛及...

單溫區管式爐MXG1700-80爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型，硅鉬棒兩側加熱，封閉式，雙層結構，外殼與內膽間配有風冷系統

SX2-2.5-10N箱式電阻爐：爐門通過多級鉸鏈固定于箱體上。爐門鎖定是靠門把手自重，通過杠桿作用將爐門緊扣在爐口上。

SX2-4-10N箱式電阻爐：爐門鎖定是靠門把手自重，通過杠桿作用將爐門緊扣在爐口上。開啟時只需將把手往上提起，待勾鎖脫勾后將爐門往外拉開至電爐左側便可。

SX2-8-10N箱式電阻爐系周期作業方式，須與KSW型溫度控制器及供實驗室、工礦企業、科研單位作元素分析測定和一般小型鋼件淬火、退火、回火等熱處理時加熱用，高...

SX2-12-10N箱式電阻爐工作環境：周圍無導電塵埃，爆炸性氣體及腐蝕性氣體；無明顯震動和顛簸。空爐升溫時間：≤50min