化學真空系統 PC 620 select 

描述

對于一臺泵同時運行兩個獨立的真空應用需求，此款化學真空系統是一個既經濟又有效的解決方案。基礎泵是備受歡迎的MD 4C NT三級隔膜泵，PC 620 select常用于含高沸點溶劑的真空應用。該泵能夠同時搭配兩個獨立的真空應用使用。
兩個電子真空控制端口都內置單向止回閥，能夠防止交叉污染互相影響。集成式的VACUU·SELECT真空控制器采用直觀、基于應用程序的用戶界面，覆蓋了所有實驗室常見真空應用。VACUU·SELECT真空控制器可滿足您所有要求。對于簡易實驗過程可手動修改控制參數，直接蒸餾，或者通過簡單的“拖放”操作編輯創建自己的應用程序。在溶劑蒸發過程中，電子控制端口能持續監測壓力，當溶劑沸點被探測到時切換至兩點法控制，將壓力維持在一個穩定的水平。進氣口分離瓶由玻璃制成，外覆一層保護膜，能防止顆粒和液滴進入泵內，防止泵損壞，延長泵的使用壽命。當連接冷水管道或循環制冷機時，出氣口廢氣冷凝器可以實現溶劑將近*回收，從而實現循環經濟和環境保護。

性能特性

• 配置圖形用戶界面的VACUU·SELECT真空控制器能簡化實驗室工作
• 預定義的應用程序能節省時間，并得到可重復的結果
• 簡易操作的應用編輯器允許編輯一系列自定義真空應用
• 滿足高真空需求，如絕大多數高沸點溶劑
• PC 620 select可以利用電子真空控制同時運行兩個獨立的真空應用

化學真空系統 PC 620 select技術指標：