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韓國NanoSystem非接觸光學(xué)表面形貌測量系統(tǒng)
型號：NanoView-1800/NanoView-2400/NanoView-2700
產(chǎn)品簡介
詳細介紹
韓國NanoSystem非接觸光學(xué)表面形貌測量系統(tǒng)
型號：NanoView-1800/NanoView-2400/NanoView-2700
高精度非接觸式表面形貌檢測
無損3D表面輪廓分析
宜用平臺提供快速、高效的工藝流程的監(jiān)控
全面、直觀的軟件提供了式樣和應(yīng)用靈活性
主要功能
3D形貌測量
高，深，間隔（從納米級到5mm）
粗糙度（R參數(shù)）表面（S參數(shù)）
面積信息（體積，面積）
2D測量
NanoView可靠性在許多應(yīng)用領(lǐng)域發(fā)揮性能。
NanoView 提供完整的表面形貌納米測量和分析技術(shù)方案。
韓國NanoSystem非接觸光學(xué)表面形貌測量系統(tǒng)
NV-Serise技術(shù)參數(shù)
型號 | NanoView-1800 | NanoView-2400 | NanoView-2700 |
測量原理 | 非接觸三維 白光掃描干涉法（WSI）/移相干涉法（PSI） | ||
現(xiàn)場放大鏡 | 1.0×（標(biāo)配） | 1.0×（標(biāo)配） | 1.0×（標(biāo)配） |
物鏡 | 單鏡頭 | 可選5個鏡頭（手動鼻輪） | 可選5個鏡頭（自動鼻輪） |
光源 | 白光LED光源 | ||
掃描方式 | 閉環(huán)控制壓電促動掃描方式 | ||
縱向掃描范圍 | Max 270um（可拓展到：5mm） | ||
縱向掃描速度 | ≤12um/sec（1X~5X倍率可選） | ||
傾斜 | ±3°（樣品臺傾斜） | 頭部傾斜±5°（手動模式） | 頭部傾斜±5°（自動模式） |
縱向分辨率 | WSI:＜0.5nm / PSI:＜0.1nm | ||
橫向分辨率 | 0.2~4um（取決于物鏡/視場放大鏡倍率） | ||
臺階重復(fù)性 | ＜0.5%（1s） | ||
XY樣品臺行程 | 140×140mm（手動） | 230×230mm（自動） | 230×230mm（自動） |
XY樣品臺行程 | 50×50mm（手動） | 100×100mm（手動） | 100×100mm（自動） |
Z軸行程 | 30mm（手動） | 100mm（手動） | 100mm（自動） |
環(huán)境要求 | 溫度：15~30℃，溫度變化量：＜1℃/15min 濕度：＜60%，無凝結(jié) | ||