日本napsonμ非接觸式光學膜厚測量系統FilmTek 1000
該公司的產品可以執行非接觸，非破壞性和高精度的折射率測量，半導體，光電，數據存儲，平板，MEMS，光致抗蝕劑，TSV（硅直通電極）和其他成膜過程。它已交付給大型公司，并在范圍內享有很高的聲譽。

日本napsonμ非接觸式光學膜厚測量系統FilmTek 1000

?SCI（科學計算）光學膜厚測量系統?　

憑借廣泛的測量波長，專有算法和分析軟件，我們具有其他公司所沒有的各種優勢。

通過組合靈活的系統，我們可以準確地響應您的需求。

[關于SCI（科學計算）]

SCI（科學計算）于1993年在加利福尼亞州成立，是一家薄膜分析和設計軟件公司。

在1996 年開發的分析和設計軟件FilmWizasrd ^TM被*為各個領域的優xiu軟件包之后，我們開發了光學膜厚測量儀FilmTeK ^TM系列。

該公司的產品可以執行非接觸，非破壞性和高精度的折射率測量，半導體，光電，數據存儲，平板，MEMS，光致抗蝕劑，TSV（硅直通電極）和其他成膜過程。它已交付給大型公司，并在范圍內享有很高的聲譽。

[產品陣容]

<1> FilmTek 1000系列：簡單的干涉儀系統

? FilmTek 1000UV（UV?面光源）

 ? FilmTek 1000M（小斑點）

 

<2> FilmTek 2000系列：干涉儀測繪標準系統，也可以進行多層膜分析。

? FilmTek 2000M（小斑點）

 ? FilmTek 2000M TSV（TSV測量）

  FilmTek 2000SE（橢圓儀）

 ? FilmTek 2000PAR

 

<3> FilmTek 3000系列：使用分光鏡在DUV到NIR范圍內，測量透明和半透明基板上薄膜的反射率和透射率圖

? FilmTek 3000M

 ? FilmTek 3000 +近紅外

? FilmTek 3000SE

 ? FilmTek 3000PAR

 

<4> FilmTek 4000系列：通過功率譜密度（PSD）進行多角度反射率測量和高精度測量

? FilmTek 4000VIS +紅外

 ? FilmTek 4000SE

 

<5> FilmTek SE：光譜橢圓儀

 

[FilmTek產品概述]

FilmTek系列是一種光學非接觸式膜厚測量設備，可進行無損且高精度的折射率測量。

為了進行分析，可以使用SCI*的高性能軟件：Film Wizard。

可以在不固定折射率和吸收（衰減）系數的情況下與膜厚度同時計算折射率和吸收系數。

在測量的同時輸出光學膜厚度，然后使用洛倫茲-洛倫茲公式由反射率和透射率確定介電常數。

確定介電常數后，將使用SCI的原始色散公式作為物理屬性值自動計算材料的波長依賴性，并自動擬合n（折射率）和k（吸收系數）。 ..

另外，由于將折射率的分辨率計算為10-4以上，因此，不僅是由該固定折射率得到的來自上表面的信息，而且還包括界面層，表面的變化和內傾斜層?？梢圆蹲降接绊?。

[測量例]

<測量目標> ?半導體和介電材料 ?電腦磁盤 ?鍍膜玻璃材料 ?多層光學涂料 ?激光鏡 ? AR涂層材料 ?電介質薄膜 ?光學設備 ? PET膜 ?現場監控過程制造設備 ?記錄媒體（DVD等） ?有機膜 ?高分子材料 ?彩色膠卷 ?低K，高K材料
日本napsonμ非接觸式光學膜厚測量系統FilmTek 1000 <測量膜的 例子> SiOx a-Si SiNx aC：H DLC ITO SOG硅膜多晶硅膜 光刻膠金屬薄膜（半透明） 聚酰亞胺Al2O5 IGZO OLED等 <測量基準示例> 硅GaAs SOI玻璃 SOS鋁等	?

產品名稱：膜厚測量系統（非接觸式，光學型）

產品特點

• ?測量波長范圍從DUV（190nm）到NIR（1700nm）
• ?大范圍的膜厚和光學常數（折射率，吸收系數）的測量
• ?通過軟件可以進行未知的薄膜分析
• ?可以深度方向的薄膜特性。
• ?支持支持多角度（廣角）反射率，透射率，橢圓光譜和干涉儀的系統
• ?多可測量5層的折射率，吸收系數和膜厚
• ?有實時CD測量模型
• ?有與TCV測量兼容的型號
• ?提供表面粗糙度和帶隙測量模型
• ?測量薄膜特性隨溫度的變化
• ?在任何基材上測量石墨烯厚度

測量規格

• 測量范圍：大1A?150μm
• 世界上小的光學常數（折射率）：0002
• 膜厚測量分辨率：小03A?