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碳鍍膜機(jī)與高真空蒸發(fā)設(shè)備的區(qū)別
閱讀：498 發(fā)布時(shí)間：2024-12-12碳鍍膜機(jī)與高真空蒸發(fā)設(shè)備的區(qū)別
碳鍍膜機(jī)主要分為僅有旋轉(zhuǎn)泵排氣的設(shè)備或配備渦輪泵的高真空蒸發(fā)設(shè)備。了解高真空蒸發(fā)設(shè)備性能的差異在選擇設(shè)備時(shí)非常有用。
旋轉(zhuǎn)泵排氣氣相沉積設(shè)備 VC-300S/W、VES-10 | 高真空抽真空沉積設(shè)備 VE-2013、VE-2050 等 | |
| 真空排氣系統(tǒng) | 旋轉(zhuǎn)泵 | 旋轉(zhuǎn)泵+渦輪分子泵 |
| 沉積真空度 | 1-2（帕） | 5×10 -3 (Pa)以下 |
| 顆粒感 |  顆粒細(xì)，但膜較粗。 |  顆粒細(xì)密，膜質(zhì)美觀。 |
| 膜質(zhì)量 | 該薄膜粗糙且易碎，因?yàn)樗谂c殘余分子碰撞時(shí)積累。 | 無殘留分子，顆粒呈直線飛行、粘附，膜質(zhì)潔凈、堅(jiān)固。 |
| 環(huán)繞能力 | 它在與殘余分子碰撞時(shí)向多個(gè)方向散射，因此具有一些環(huán)繞特性。 | 顆粒沿直線飛行并粘附，但在陰影區(qū)域不形成薄膜。 |
| 使用碳?xì)庀喑练e的目的 | 切片和支撐膜的加固、元素分析、高倍SEM觀察、FIB保護(hù)膜等。 | 切片和支撐膜的強(qiáng)化、元素分析、高倍SEM觀察、FIB保護(hù)膜、碳支撐膜的制作、遮蔽法等。 |
*碳鍍膜機(jī)是針對(duì)特定用途而設(shè)計(jì)的，其用途有限，但可以降低設(shè)備價(jià)格。
該裝置是用于TEM、SEM、X射線分析等的碳膜生成裝置。用于防止樹脂嵌入樣品等的充電。 300W 用于創(chuàng)建特別厚的碳膜，例如 XMA 和 FIB 樣品的保護(hù)膜。
使用旋轉(zhuǎn)泵進(jìn)行碳沉積，同時(shí)使用皮拉尼真空計(jì)監(jiān)測(cè)真空水平。通過始終蒸發(fā)一定量的碳，可以實(shí)現(xiàn)高度可再現(xiàn)的碳沉積。
請(qǐng)使用專用補(bǔ)充裝SLC-30作為碳源。
300S有一對(duì)電極，300W有兩對(duì)電極。 300W 使您可以通過開關(guān)將涂層厚度增加一倍。
旋轉(zhuǎn)泵（RP）為外置落地式。請(qǐng)將其安裝在堅(jiān)固的工作臺(tái)上，以免與RP的振動(dòng)產(chǎn)生共振。無需水冷。
該產(chǎn)品是一套裝置，包括裝置本身、旋轉(zhuǎn)泵和 SUS 軟管。
需要親臨現(xiàn)場(chǎng)講解安裝和操作。
VC-300設(shè)備規(guī)格
| 物品 | 規(guī)格 |
|---|---|
| 電源 | AC100V（單相100V 15A） |
| 設(shè)備尺寸 | W255mm x D375mm x H430mm 重量 18kg |
| 旋轉(zhuǎn)泵 | 排氣速度 50?/min (GLD-051) 重量 14.6kg |
| 樣品室尺寸 | 內(nèi)徑120mm x 高140mm |
| 樣品臺(tái)尺寸 | Φ100mm |
| 氣相沉積源-樣品臺(tái)距離 | 45mm 至 75mm 可調(diào) |
| 可安裝樣品尺寸 | Φ98mm，最大樣品高度40mm |
| 氣相沉積電源 | 排氣、蒸發(fā)。 每個(gè)固定電壓進(jìn)行 2 步切換，預(yù)設(shè)為最佳電壓 |
| 碳源 | 專用補(bǔ)充型碳SLC-30 |
VC-300 耗材清單
專用碳
SLC-30
1箱（100個(gè)）
碳纖維
SLC-30
值 10 盒套裝
VC300玻璃鋼瓶包裝（2件1套）
VC300 玻璃腔體
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