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RUDOLPH S3000A 橢圓偏光儀
Rudolph S3000A 橢圓偏光儀概述
先進的光譜橢圓儀
高性能，精確度高
多通道雙波長光譜橢圓儀
波長范圍廣（118-8000nm）
材料范圍廣泛（有機和無機半導體、薄膜等）
可測量薄膜厚度和光學性能
重復性和可靠性
自校準光機、光纖激光二極管源和高分辨率彩色CCD檢測器
基于Windows操作系統，先進流程控制軟件
自動化測量薄膜的厚度、光學常數、應力和折射率
半導體行業生產用透明度計量工具
晶圓測試和計量設備，適用于半導體和高級封裝生產線
無損光學成像技術
X射線探測技術，測量粒子/缺陷密度、尺寸和材料特性
晶圓尺寸為12英寸
設計用于300mm fab范圍內的應用
RUDOLPH S3000A是一款高性能的橢圓偏光儀，廣泛應用于薄膜和表面的無損測量。該設備具有以下主要特點：
高精度與高重復性：RUDOLPH S3000A能夠提供精確、可靠的測量結果，適用于科學和工業應用。
多通道雙波長設計：它是一種先進的多通道、雙波長光譜橢圓偏光儀，可以同時對多達四個樣品進行測量，確保了結果的可重復性和可靠性。
寬波長范圍：該設備支持從118到8000納米的廣泛波長范圍，能夠測量有機和無機半導體、薄膜、光學層和基板等多種材料。
溫度控制與數據收集：配備溫度控制系統和數據收集功能，使得用戶可以方便地進行旋轉分析和數據分析。
自校準光機與高分辨率檢測器：配備自校準光機和高分辨率彩色CCD檢測器，確保了測量的準確性和長期穩定性。
用戶友好的軟件工具：基于Windows的操作系統和先進的流程控制軟件，使操作更加簡便，并且便于定制和分析。
晶片尺寸兼容性：可以測量最大150毫米的晶片，樣本厚度范圍為1毫米至4毫米，還可以通過選配模塊提升性能。
應用領域：該設備不僅適用于薄膜厚度和光學常數的測量，還能夠測量應力和折射率等物理特性，適用于各種科學和工業應用。
總之，RUDOLPH S3000A是一款功能強大且用途廣泛的橢圓偏光儀，適合需要高精度和高重復性的科學研究和工業生產環境。
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