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雙光子無掩膜光刻系統的特點和應用場景
雙光子無掩膜光刻系統利用高能激光在非線性光學晶體中產生的雙光子吸收效應，通過激光與材料相互作用引發局部光化學反應，直接實現微納結構的加工。無需傳統掩膜版，極大簡化了工藝流。
1、核心優勢：
超高精度：分辨率達100nm，表面粗糙度Ra＜5nm，支持2.5D/3D微納結構加工。
設計自由度：無需掩膜，通過CAD直接設計結構，支持快速迭代與小批量定制化生產。
材料兼容性：適用于金屬、半導體（如InP、SOI）、聚合物（如光敏樹脂）等多種材料。
工業化潛力：如Nanoscribe的Quantum X系統可實現6英寸晶圓級批量加工，通宵產能達200個標準結構。
2、應用場景：
微電子與光子學：制造微處理器、MEMS傳感器、光子晶體等，提升器件集成度與性能。
生物醫學：打印生物芯片、微流控芯片、細胞支架等，用于疾病診斷、藥物篩選及組織工程。
光學器件：加工自由曲面透鏡、光纖耦合器等，實現光學組件的小型化與功能集成。
納米技術：制備納米傳感器、量子點等，推動納米電子與納米光子學的研究。