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日本日立 光譜儀
由于行業法規日益嚴格，供應鏈變得復雜以及更多地使 用廢料作為基礎材料，因此鑄造廠和金屬制造商必須將 雜質和痕量元素控制在*低ppm范圍內。在過去，這一 級別的OES對許多企業而言是遙不可及。日立分析儀器 推出的新型OE750可改變這一現狀。
日立的這款全新OES可用于分析所有主要合金元素，并 識別金屬中含量極低的雜質、痕量元素和關心元素，如 鋼中的氮。 OE750的測量速度快、可靠性高且運營成本 低，可進行高性價比的日常分析和全面質量控制，其性 能可與更大、更貴的光譜儀媲美。
德國制造的OE750的設計離不開日立45余年的金屬行業 經驗的支撐。從測量鋼鐵中的氮到鋁中的磷 ，這款分析 儀可提供滿足當今嚴格規范所需的全面金屬分析。 日立分析儀器的OE750是可進行快速、全面的金屬質量 分析的經濟適用儀器，可滿足一切需求。
日本日立 光譜儀
我們如何提高 性價比
這*取決于技術。
OE750采用*先進的半導體探測器和新型光學概念（四項*利 正在申請中）。這使得日立的OES光譜儀在同類產品中具有* 高光學分辨率，因此您不必在高性能和低成本之間作出選擇。
動態CMOS檢測器的創新使用以及將光學系統直接接合至火花 臺可確保*佳照度以及119nm至766nm的波長范圍。這包括 從氫到鈾的所有元素，用于全元素分析*。這種性能通常只適 用于*端質量控制儀器，但OE750可通過創新、低氬和低功耗 降低成本。
OE750在元素選擇上具有大大的靈活性，能使操作適合未來需 要。
*大可靠性和*短停 機時間
| OE750旨在保持運行不間斷。其 維護時間被縮至小；例如，只 需每隔幾千次測量*清理一次火花 臺，標準化間隔通常是幾周甚至幾 個月。由此可實現每周節省2個小 時。
| 此外，新開發的數字火花光源將提 供更好的可靠性以及每個元素的* 佳能量激發脈沖，從而提高分析的 精密度。
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