11月30日-12月1日，第 23 屆全國(guó)分子光譜學(xué)學(xué)術(shù)會(huì)議和第五屆光譜年會(huì)暨黃本立院士百歲華誕學(xué)術(shù)研討會(huì)在福建省廈門市召開(kāi)。此次盛會(huì)由中國(guó)光學(xué)學(xué)會(huì)、中國(guó)化學(xué)會(huì)，以及中國(guó)光學(xué)學(xué)會(huì)光譜專業(yè)委員主辦，由廈門大學(xué)承辦。本次大會(huì)匯聚了國(guó)內(nèi)外光譜相關(guān)領(lǐng)域的院士、專家學(xué)者和企業(yè)代表，通過(guò)這一平臺(tái)，與會(huì)者不僅分享了各自研究領(lǐng)域的最新成果，并就未來(lái)所面臨的科技挑戰(zhàn)展開(kāi)了深入探討。

譜育科技攜SUPEC 7000 ICP-MS，EXPEC 6500 ICP-OES，EXPEC 3750 GC-MS、SUPEC 5000 COD等高端分析儀器參與本次會(huì)議，為促進(jìn)實(shí)驗(yàn)室分析研究和應(yīng)用技術(shù)發(fā)展貢獻(xiàn)力量。

譜育科技擁有豐富的技術(shù)平臺(tái)和產(chǎn)品體系，掌握了質(zhì)譜、色譜、光譜、理化等分析檢測(cè)技術(shù)及氣體、液體、固體等進(jìn)樣前處理技術(shù)。在光譜技術(shù)領(lǐng)域，公司積累了近20年的研發(fā)沉淀，構(gòu)建了包括分子光譜、原子光譜和熒光光譜在內(nèi)的多個(gè)技術(shù)平臺(tái)，展現(xiàn)出強(qiáng)勁的創(chuàng)新動(dòng)力。

精彩報(bào)告一覽

會(huì)議上，譜育科技質(zhì)譜分析研究部副經(jīng)理 吳智威博士發(fā)表了題為《ICP質(zhì)譜技術(shù)在超痕量分析與瞬態(tài)信號(hào)分析領(lǐng)域中的應(yīng)用進(jìn)展》的報(bào)告。

吳博向與會(huì)專家詳細(xì)介紹了譜育科技ICP-MS/MS與ICP-Q-TOF在超痕量分析領(lǐng)域及瞬態(tài)信號(hào)分析領(lǐng)域的最新進(jìn)展。其中，EXPEC 7350S型 ICP-MS/MS基于其優(yōu)異的檢出性能，目前已具備全面覆蓋晶圓表面雜質(zhì)、濕化學(xué)品、電子特氣、硅烷等典型樣品的超痕量分析需求的技術(shù)能力，并且可為我國(guó)半導(dǎo)體檢測(cè)設(shè)備與技術(shù)的國(guó)產(chǎn)替代提供強(qiáng)有力的技術(shù)支撐。而在瞬態(tài)信號(hào)分析方面，吳博基于ICP-Q-TOF技術(shù)對(duì)金屬標(biāo)簽摻雜納米/微米塑料的表征研究為例，介紹了譜育科技在瞬態(tài)信號(hào)分析領(lǐng)域中的最新進(jìn)展，并對(duì)ICP質(zhì)譜技術(shù)在單顆粒、單細(xì)胞的進(jìn)一步前沿應(yīng)用進(jìn)行了展望。

會(huì)議期間舉行了“黃本立院士獎(jiǎng)學(xué)金”捐贈(zèng)證書(shū)頒發(fā)儀式，該學(xué)獎(jiǎng)金為支持廈門大學(xué)化工學(xué)院的建設(shè)，激勵(lì)在校學(xué)子勇攀科學(xué)高峰。譜育科技捐獻(xiàn)了10萬(wàn)元助資學(xué)院的黃本立獎(jiǎng)金，吳智威博士代表譜育科技領(lǐng)取黃本立獎(jiǎng)學(xué)金捐贈(zèng)證書(shū)。

展望未來(lái)，譜育科技將不斷秉承黃本立院士永攀高峰、敢為人先的創(chuàng)新精神，以及專心努力潛心研究的奉獻(xiàn)精神，堅(jiān)定不移地推進(jìn)高端科學(xué)儀器國(guó)產(chǎn)化的發(fā)展道路。我們致力于通過(guò)不懈努力，支持國(guó)家在科技領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)更高水平的自主可控，不斷向著更加宏偉的目標(biāo)前進(jìn)，為我國(guó)科技進(jìn)步貢獻(xiàn)力量。