超聲波噴涂是一種光刻膠和聚酰亞胺涂料的簡單、經濟和可重復工藝。超聲波涂層系統能夠使用簡單的分層技術精細控制流量、涂層速度和沉積量。
超聲波噴涂技術用于半導體光刻膠涂料。與傳統的紡紗涂層和浸漬涂層工藝相比，具有均勻性高、微結構封裝性好、涂層面積可控制等優點。近10年來，三維微結構光刻膠涂層的應用得到了充分的論證。超聲波霧化噴涂制備光刻膠涂料的工藝在微結構包裝和均勻性工藝方面明顯優于傳統的紡絲涂料。
超聲波噴涂系統能精確控制流量、涂層速度和沉降體積。低速噴霧成型將噴霧定義為一種精確的、可控制的圖案，以避免在產生非常薄和均勻的層時過度噴霧。該超聲波噴涂系統可控制從亞微米到100微米以上的厚度，并可覆蓋任何形狀或尺寸。
光刻膠的超聲波涂層技術的特點：
◆各種表面輪廓的均勻薄膜覆蓋
◆非接觸噴灑
◆微氣流噴灑,多種液體喂養方案
◆高速控制精度
◆高液體利用率
◆化學和涂層性能的高度靈活性
◆噴霧噴霧
◆高傳輸效率和最小廢物
◆可重復的成熟噴灑工藝
超聲波光刻膠涂層系統的應用：
超聲波光刻膠涂層系統可用于平面和三維結構基材的表面涂層，包括硅片、玻璃、陶瓷、金屬等材料。典型的光刻膠涂料應用包括晶圓、MEMS、透鏡、微流體芯片、濾波器等。
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