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TN-G1200ZC管式爐CVD系統
廣泛用于各種反應溫度在1100℃左右的CVD實驗，也可用于：真空燒結、真空氣氛保護燒結、納米材料制備、電池材料制備等多研究領域。
產品簡介
詳細介紹
TN-G1200ZC型1200℃管式爐CVD系統
該儀器可廣泛用于各種反應溫度在1100℃左右的CVD實驗，也可用于：真空燒結、真空氣氛保護燒結、納米材料制備、電池材料制備等多研究領域。
TN-G1200ZC管式爐CVD系統
技術參數：
1 | 產品名稱 | TN-G1200ZC管式爐CVD系統 |
2 | 產品型號 | TN-G1200ZC -503 工作室尺寸：直徑50x300mm |
TN-G1200ZC -603 工作室尺寸：直徑60x300mm | ||
TN-G1200ZC -803 工作室尺寸：直徑80x300mm | ||
3 | 顯示模式 | 觸摸屏顯示 |
4 | 爐膛模式 | 開啟式 |
5 | 上限溫度 | 1200℃ |
6 | 工作溫度 | ≤1100℃ |
7 | 加熱溫區 | 單溫區 |
8 | 溫區長度 | 200mm |
9 | 恒溫區長 | 100mm |
10 | 爐管材質 | 石英管 |
11 | 密封方式 | 不銹鋼真空法蘭 |
12 | 控溫方式 | 智能化30段可編程控制，自動控溫 |
13 | 控溫精度 | ±1℃ |
14 | 加熱速率 | ≤20℃ |
15 | 加熱元件 | 進口合金加熱絲 |
16 | 熱電偶 | K型熱電偶 |
17 | 爐膛材料 | 進口氧化鋁陶瓷纖維 |
18 | 功率 | 2.5Kw |
19 | 氣體通道 | 可連接3種氣源 |
20 | 電源 | 220v 50Hz～60Hz |
21 | 系統真空 | -0.1MPa |
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