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?產品介紹
TRIFT-V nanoTOF II(三次聚集飛行時間)二次離子質譜儀是超靈敏的表面分析技術，可檢測表面分子成分和分布，元素及其同位素。所有元素和同位素，包括氫都可以用飛行時間二次離子質譜分析。由初級脈沖離子束轟擊樣品表面所產生的二次離子，經飛行時間分析器分析二次離子的荷質比，從而得知樣品表面信息。
PHI nanoTOF IITM飛行時間質譜儀是第五代SIMS儀器，該儀器具有*的飛行時間（TOF）分析儀，它擁有市場上TOF-SIMS儀器中大的角度和能量接收范圍，它使用了具有優良離子傳輸能力的三級聚焦半球形靜電分析器，實現了高空間分辨率和質量分辨率。PHI nanoTOF IITM還具有很高的成像能力，可以表征形貌復雜的樣品而沒有陰影效應。
?飛行時間質譜儀-特點：
1、立體收集角度大和深景深
2、同時實現高空間及高能量分辨模式
3、視野范圍小可至5微米
4、低背景和亞穩抑制
5、多種離子槍選配實現高精度深度剖析
6、FIB-TOF三維深度分布成像
7、串聯質譜MS/MS （有機高分子材料分析*附件）
8、SmartSoftTM-TOF配合WinCadence軟件易于操作
9、多樣化的樣品托
?nanoTOF II儀器規格：
Bi 作為一次離子源時：
1、低質量數質量分辨率（m/Δm）：硅（28Si+和28SiH+）在12000以上
2、高質量數質量分辨率（m/Δm）：m/z > 200，在 16,000以上
3、有機材料的質量分辨率（m/Δm）：PET（104 amu）在12000以上
4、小離子束直徑：70納米（高空間分辨率模式）、0.5μm（高質量分辨率模式）
?nanoTOF II選配
串聯質譜MS/MS、氬氣團簇離子槍、C60離子槍、銫離子槍、氬／氧離子濺射槍、樣品冷卻/加熱系統、樣品高溫加熱系統、真空轉移裝置、氧噴射系統、Zalar高速旋轉系統、聚焦離子束FIB（Focused Ion Beam）、前處理室、各種樣品托、離線數據處理系統、Static SIMS Library等。
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