2011年10月12日，第八屆全國顆粒測試學術會議暨中國粉體工業發展年會在四川成都召開。大會開幕式由中國顆粒學會顆粒測試專業委員會主任、北京粉體技術協會理事長胡榮澤教授主持，會議主要對顆粒測試的研究成果、顆粒測試設備發展的動態進行了深入的討論。

歐美克研發部系統工程師陳進博士做了題為“激光粒度儀測量窗口全反射現象對粒度測量的影響”學術報告，報告闡述了激光粒度儀測量窗口的全反射對粒度測量結果的影響。結論是：在顆粒測試時，受全反射影響的粒度范圍在0.1~1.0微米之間。而在儀器光路的設計階段如能采取措施減少或消除全反射現象的影響，則儀器在上述范圍的測量精度可顯著改善。這一理論，引發了會議現場專家、學者的興趣，爭相咨詢該理論在實際應用過程中的技術性問題。陳博士都一一悉心回答。深入的理論研究和積極學術交流一定會給歐美克儀器的發展帶來更深刻的影響。

另外，在同期舉辦的的中國粉體工業發展年會上，歐美克激光粒度儀易賽20獲得由中國粉體網和北京粉體技術協會共同頒發的“2011-2012年度產品”獎，這是該產品問世以來第5次獲得全國性媒體或者政府機構授予的獎勵。

                           顆粒測試會議現場

                                   歐美克公司陳進博士做學術報告