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粒度分析儀器的使用過程中該注意什么？
粒度分析儀器技術就是一種既可以準確測定顆粒物濃度又可以測定粒度分布（粒度組成）的現代技術。該技術采用MIE氏散射原理，通過檢測顆粒物的散射譜分析粒度組成，他的突出優點是不接觸測量，速度快，重復性好，可以動態測量。
粒度分析儀器就是針對生產現場的實際需要，發展起來的一種實時粒度分析手段，它具有實時性，連續性，抗電磁、高溫、粉塵、震動、腐蝕性干擾能力，為控制系統提供準確的控制信號，真正實現生產自動化、監測科學化。
粒度分析儀器的使用過程中，對于使用者來說，如何選取儀器的遮光比對于提升儀器度是很有影響的，所謂的遮光比就是在使用納米激光粒度儀測試樣品時，配置的樣品懸浮液的濃度，遮光比的正確選擇是激光粒度儀在粒度測試過程中的重要的步驟，遮光比是否合適或者說被測樣品的濃度是否合適嚴重關系到粒度測量結果的準確性和代表性。
粒度分析儀器的測量原理要求在測試過程中，樣品的濃度以樣品中顆粒之間相互不發生二次散射為原則，理論上就是要求懸浮液或者空氣中顆粒之間的距離為顆粒直徑的3倍，但是這個要求非常難以掌握，因此在實際的粒度測試中，通過調整遮光比的數值來盡量保證顆粒之間不發生二次散射。遮光比不宜過大（超過50%）或者過小（低于5%），遮光比過大時，顆粒的濃度過高，容易發生二次散射，測量結果誤差增大；遮光比過低，樣品中顆粒的濃度太低，顆粒數太少，測試結果的代表性很差，甚至可能導致測試結果是無效的，因此在測試過程中，對遮光比的選取要通過反復試驗，以得到正確的測量結果。
一般來說，對于比較粗的樣品，遮光比可以選擇的比較高，如20~30%，正常情況可以為10~25%;對于超細的樣品，粒度分析儀器可以適當降低樣品的遮光比，但一般不要超過40%，這些都是實驗得到的經驗數值，但還需通過反復實驗，找到對應樣品測試時遮光比的數值。