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產(chǎn)品分類 品牌分類

產(chǎn)品簡介

多功能離子減薄儀---電鏡制樣設(shè)備是一款*的離子束研磨設(shè)備，帶有兩個(gè)鞍形場離子源，離子束能量可調(diào)，以獲得*佳離子研磨結(jié)果。
這一款桌面型設(shè)備集 TEM，SEM和LM樣品制備功能于一體，這與市面上其它設(shè)備截然不同。除了高能量離子研磨
功能外，徠卡EM RES102還可用于低能量ji溫和的離子束研磨過程。

詳細(xì)介紹

Leica EM RES102 多功能離子減薄儀

產(chǎn)品規(guī)格

下載

性能與優(yōu)點(diǎn)

適用于TEM，SEM以及LM的樣品制備

*的解決方案

Leica EM RES102 是一款*的離子束研磨設(shè)備，帶有兩個(gè)鞍形場離子源，離子束能量可調(diào)，以獲得*佳離子研磨結(jié)果。

這一款桌面型設(shè)備集 TEM，SEM和LM樣品制備功能于一體，這與市面上其它設(shè)備截然不同。除了高能量離子研磨

功能外，徠卡EM RES102還可用于低能量ji溫和的離子束研磨過程。

TEM 樣品

› 單面或雙面離子束研磨適用于材料的離子束減薄過程。鞍形場離子源可獲得很大的電子束透明薄區(qū)。

› 程序化控制的離子入射角度變化，適用于完成特殊的樣品制備目的，例如FIB樣品清潔，以減少無定形非晶層。

SEM 或 LM 樣品

› 離子束拋光*大拋光區(qū)域可達(dá)25mm。

› 離子束清潔適用于對樣品表面污染層或機(jī)械拋光后表面產(chǎn)生的涂抹層進(jìn)行清潔。

› 樣品表面襯度增強(qiáng)作用，可替代化學(xué)刻蝕作用。

› 35°斜坡切割用于制備多層樣品的截面。

› 90°斜坡切割用于制備復(fù)合結(jié)構(gòu)的半導(dǎo)體樣品或組裝器件，這種方式所需的機(jī)械預(yù)加工工作*少。

TEM, SEM 或 LM樣品制備

- 在于您的選擇

為了支持多樣化的應(yīng)用需求，Leica EM RES102 可以裝配各種樣品臺以適用于TEM，SEM及LM樣品制備。預(yù)抽室

系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)樣品快速交換，從而可*效提高樣品交換效率。

SEM

該樣品臺適用于SEM和LM樣品的離子束清潔，拋光和襯度增強(qiáng)，可在環(huán)境溫度下或 LN2制冷情況下使用。SEM樣品臺

可以制備*大尺寸達(dá) 25mm 的樣品。適配器用于夾持商品化生產(chǎn)的帶有3.1mm直徑插針的SEM樣品座。

SEM

斜坡切割樣品臺適用于切割樣品獲得縱截面(90°)或斜截面(35°)，便于SEM觀察樣品內(nèi)部縱向結(jié)構(gòu)，可以在環(huán)境溫度下或LN2 制冷情況下使用。SEM clamp holder to hold small sampleswith maximal dimensions of 5(H) x 7(W) x2(T)mm.This holder can be easily transferredto the SEM without removing the sample.TEM Sample Holder (Quick ClampHolder)for single and double-sided low angle millingdown to 4°.