您好, 歡迎來到化工儀器網
光柵是什么?選擇光柵光譜儀需要考慮的因素
閱讀：2335 發布時間：2018-10-17
光柵是什么?選擇光柵光譜儀需要考慮的因素
光柵作為重要的分光器件，它的選擇與性能直接影響整個系統性能。
光柵分為刻劃光柵、復制光柵、全息光柵等。刻劃光柵是用鉆石刻刀在涂薄金屬表面機械刻劃而成；復制光柵是用母光柵復制而成。典型刻劃光柵和復制光柵的刻槽是三角形。全息光柵是由激光干涉條紋光刻而成。全息光柵通常包括正弦刻槽。刻劃光柵具有衍射效率高的特點，全息光柵光譜范圍廣，雜散光低，且可作到高光譜分辨率。
在曲率半徑為R的凹面反射光柵的主截面上(即通過光柵中心而垂直于光柵刻線的平面)，存在一個直徑為R的圓。當狹縫和光柵都在這個圓上時，則這個圓就是狹縫衍象焦點的軌跡。這個圓稱為羅蘭(Rowland)圓，這時凹面光柵同時起到準直與聚焦的作用。
選擇光柵光譜儀主要考慮如下因素：
1、閃耀波長，閃耀波長為光柵大衍射效率點，因此選擇光柵時應盡量選擇閃耀波長在實驗需要波長附近。如實驗為可見光范圍，可選擇閃耀波長為500nm。
2、光柵刻線，光柵刻線多少直接關系到光譜分辨率，刻線多光譜分辨率高，刻線少光譜覆蓋范圍寬，兩者要根據實驗靈活選擇。
3、光柵效率，光柵效率是衍射到給定級次的單色光與入射單色光的比值。光柵效率愈高，信號損失愈小。為提高此效率，除提高光柵制作工藝外，還采用特殊鍍膜，提高反射效率。
光柵光譜儀的工作原理首先是衍射光柵，它是在一塊平整的玻璃或金屬材料表面（可以是平面或凹面）刻畫出一系列平行、等距的刻線，然后在整個表面鍍上高反射的金屬膜或介質膜，就構成一塊反射試驗射光柵。相鄰刻線的間距d稱為光柵常數，通常刻線密度為每毫米數百至數十萬條，刻線方向與光譜儀狹縫平行。入射光經光柵衍射后，相鄰刻線產生的光程差。光柵方程將某波長的衍射角和入射角通過光柵常數d起來，為入射光波長，m為衍射級次，取等整數。式中的“”號選取規則為：入射角和衍射角在光柵法線的同側時取正號，在法線兩側時取負號。
光柵光譜儀是光譜檢測中zui常用的裝置。光柵光譜儀是指利用折射或衍射產生色散的一類光譜檢測裝置。
光柵光譜儀被廣泛應用于顏色測量、化學成份的濃度測量或輻射度學分析、膜厚測量、氣體成分分析等領域中。