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曝光	應用	特性	對生產量的影響
i線曝光用粘度增強負膠系列	在設計制造中替代基于聚異戊二烯雙疊氮（Polyioprene-Bisazide）的負膠。	在濕刻和電鍍應用時強大的粘附力；很容易用去膠液去除。單次旋涂厚度范圍如下：﹤0.1～200 μm可在i、g以及h-line波長曝光	避免了基于有機溶劑的顯影和沖洗過優于傳統正膠的優勢：控制表面形貌的優異線寬任意甩膠厚度都可得到筆直的側壁單次旋涂即可獲得200 μm膠厚厚膠同樣可得到高清的分辨率 150 ℃軟烘烤的應用可縮短烘烤時間優異的感光度進而增加曝光通量更快的顯影，100 μm的光刻膠顯影僅需6 ～ 8分鐘光刻膠曝光時不會出現氣泡可將一種顯影液同時應用于負膠和正膠不必使用增粘劑如HMDS







g和h線曝光用粘度增強負膠系列

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