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有的人又把膜厚儀稱為膜厚測量儀，主要分為兩種類型，一種類型是手持式與臺式兩種，手持式的膜厚測量儀又有好幾種類型，比如說電渦流鍍層測厚儀，熒光X射線鍍層膜厚測量儀。手持式的測量儀采用的測量原理是利用探頭經(jīng)過非鐵磁覆蓋二流入鐵磁基體磁通的大小。對于，膜厚儀很多人對它測量原理是非常感興趣的，我們一起來了解一下它的測量原理。
我們已經(jīng)學習了手持膜厚儀的測量原理，接著我們再來學習一下臺式測厚儀的測量原理。一些技術人員告訴我們，臺式的熒光X射線膜厚儀，是一種通過一次X射線穿透金屬元素樣品的而產(chǎn)生的低能量的光子，這種低能量的光子又被稱為二次熒光。可以通過高級計算機對這種能量進行計算，這種能量計算出來的值可以對厚度進行一定的衡量。
在膜厚儀中，比較流行的測量原理就是電渦流測量原理，我們一起來對電渦流測量原理進行比較詳盡的學習，高頻的交流信號一般會在側頭線圈中產(chǎn)生一定的電磁場，當測試的探頭靠近導體的時候，就會在它的附加產(chǎn)生渦流。如果測試探頭離導體的基體越近，它的渦流就會越大，反射阻抗肯定也會更大。事實上，這是一個反饋作用的過程，這個過程中表征了測試探頭與導電基體之間距離的大小，換句話說，這就是導體導電基體上非導電覆層厚度的大小。
采用電渦流測試的原理，原則上需要對導體上的非導電體覆蓋層均可以進行測量，技術人員告訴我們，覆層材料是有一定的導電性的，通過校準也是可以同時進行測量的，不過在這其中，有一個比較明顯的要求就是兩個的導電率最好是相差3到5倍左右。
這就是跟朋友們介紹分享的膜厚儀一些測量基本原理，本文主要介紹了手持式膜厚測試儀的測量原理、臺式膜厚測試儀的測量原理，及其在膜厚測試儀比較流行的測量原理，這種測量原理就是電渦流測量原理。在測量原理中，鋼鐵經(jīng)常作為基體的導電體。
