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產品簡介
詳細介紹
ICP 感應耦合等離子體反應室示意圖
感應耦合等離子體（ICP）相關產品
主要特點：
- 分開的感應耦合等離子體的射頻發生器和電極的射頻發生器提供了對離子能量和離子密度的分別控制
- 高傳導率的氣泵端口為zui快的刻蝕速率提供高的氣量
- 靜電屏消除了電容耦合，減小了對器件的電損傷，減少了反應室的顆粒
- 牛津儀器的ICP工具包括標配的晶片夾具和氦氣冷卻，在一個廣泛、可選的溫度范圍內提供優異的溫度控制
ICP優點：
- 通過高的離子密度（>1011 cm3）和高的基團密度可以獲得高的刻蝕速率
- 通過低的離子能量能夠獲得對選擇比和損傷的控制
- 對感應耦合等離子體和電極射頻的分別控制提供了高的工藝靈活性
- 化學的和離子誘導的刻蝕
- 為了某些低刻蝕速率的應用，也可以以感應離子刻蝕的模式運行
- 可以用于以感應耦合等離子體-化學氣相沉積模式進行沉積，提供：
- 比等離子體增強化學氣相沉積的溫度低的條件下沉積致密的薄膜
- 在溫度敏感的襯底上進行低損傷的沉積
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| Feature | ICP65 | ICP180-100 | ICP380-100 | ICP380-133 |
| 電極尺寸 | 直徑240mm 中間50mm直徑區域等離子體均勻 | 直徑240mm | 直徑240mm | 直徑330mm |
| 進樣 | 手動 | 真空進樣 | 真空進樣 | 真空進樣 |
| 襯底 | 50mm
| 150mm，可以選擇多片或小片的載片臺 | 200mm，可以選擇多片或小片的載片臺 | 330mm，可以選擇多片或小片的載片臺 |
| 摻雜劑 | 不能 | 可以，為ICP-CVD選擇 | 可以，為ICP-CVD選擇 | 可以，為ICP-CVD選擇 |
| 質量流量計控制的氣體管線 | 可使用8或12根管線 | 可使用8或12根管線 | 可使用8或12根管線 | 可使用8或12根管線 |
| 載片臺溫度范圍 | -150 to 400ºC | -150 to 400ºC | -150 to 400ºC | -150 to 350ºC |
| 在位等離子體清洗 | 可以，取決于沉積的材料 | 可以，取決于沉積的材料 | 可以，取決于沉積的材料 | 可以，取決于沉積的材料 |
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