光學(xué)鍍膜的一個(gè)主要特點(diǎn)是它的表面質(zhì)量。 表面質(zhì)量決定了光學(xué)器件本身的性能。 高品質(zhì)的光學(xué)鍍膜起始于光滑的超級(jí)拋光的光學(xué)基板，其均方根粗糙度是0.05納米。常規(guī)鍍膜會(huì)在增加光學(xué)基板表面的粗糙度，粗糙度取決于所使用的技術(shù)。 例如，蒸發(fā)技術(shù)沉積的薄膜表面均方根粗糙度典型值是1納米，而離子輔助沉積技術(shù)獲得的表面均方根粗糙度典型值是0.4納米。 離子束濺射沉積的薄膜表面均方根粗糙度和超級(jí)拋光的基板相當(dāng)， 為0.05納米。

高品質(zhì)的光學(xué)鍍膜應(yīng)具有低的光損耗。 光學(xué)鍍膜內(nèi)的損耗來(lái)自散射和吸收。 離子束濺射產(chǎn)生的薄膜具有很低的總損耗，以至于需要精密的儀器來(lái)測(cè)量它們。已經(jīng)有兩個(gè)獨(dú)立的研究組公布其測(cè)量的鏡子的損耗小于百萬(wàn)分之二。 這兩個(gè)小組都使用牛津儀器離子束濺射沉積系統(tǒng)來(lái)制作鏡子。

• Laser Bar Facet
• 高品質(zhì)鏡面
• 雙波長(zhǎng)增透膜
• 注釋

激光棒鏡面鍍膜

激光器的諧振腔是由一些鏡面所構(gòu)成的。激光束會(huì)從率的一個(gè)鏡面穿透發(fā)射出來(lái)，因此必須在一端對(duì)光束進(jìn)行限制，而另一端使光束zui低損耗地出射。 這可通過(guò)在反射面增加一層增反膜（HR），在出射面增加一層增透膜（AR）實(shí)現(xiàn)。
由于激光棒諧振腔各個(gè)面鍍膜的情況不同，因此激光棒必須安裝在一個(gè)可靠的裝置上，首先對(duì)一個(gè)面進(jìn)行沉積鍍膜，然后把激光棒翻轉(zhuǎn)，對(duì)另外一個(gè)面進(jìn)行沉積鍍膜，同時(shí)要保證之前那個(gè)面不會(huì)被污染。
離子束濺射沉積 無(wú)燈絲射頻（RF）源 無(wú)燈絲輔助射頻源 無(wú)燈絲苯基-萘基胺
通過(guò)時(shí)間控制器或晶體振蕩器在40毫秒內(nèi)關(guān)閉進(jìn)行工藝控制 • Al2O3 大于 20 nm/ min • Si 大于 20 nm/ min • SiO2 大于 20 nm/ min • Ta2O5 大于 25 nm/ min 均勻性優(yōu)于 +/- 2 %	典型的離子束濺射裝置布局圖 對(duì)于激光棒的鍍膜，我們使用直接沉積的方法： - 這樣側(cè)壁的沉積量zui少 -得到均勻的沉積面厚度和輪廓

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