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采用不同技術(shù)制造的鉭電容器的故障模式

閱讀:865        發(fā)布時間:2017-1-19

    鉭電容器的故障模式的討論基本包括兩方面:標(biāo)準(zhǔn)二氧化錳負(fù)極類型和新導(dǎo)電聚合物(CP)類型。標(biāo)準(zhǔn)鉭電容器在正常工作模式下,由于電脈沖和電壓水平,使溝道(通道)中電導(dǎo)增加,而導(dǎo)致電擊穿。這會導(dǎo)致隨后的熱擊穿,將電容器擊毀。在相反模式下,我們已經(jīng)通報過:在相對低的電壓水平下,焦耳熱會引起導(dǎo)電增加,從而觸發(fā)熱擊穿。zui終導(dǎo)致反饋循環(huán),包括:溫度-電導(dǎo) -電流-焦耳熱,zui終形成電擊穿。這兩種擊穿模式具有隨機(jī)特征,很難提前定位。相對于標(biāo)準(zhǔn)鉭電容器而言,導(dǎo)電聚合物(CP)電容器則顯示了稍微不同的電流導(dǎo)電機(jī)理。導(dǎo)電聚合物的介質(zhì)擊穿近似于雪崩擊穿和場致發(fā)射擊穿。是由于兩電極之間的引力,電化學(xué)衰變,枝狀結(jié)晶組織等原因?qū)е碌臋C(jī)電崩塌。然而,也出現(xiàn)了某些負(fù)極膜發(fā)生自愈現(xiàn)象報告。這可能源于膜蒸發(fā),碳化和再氧化過程。但并非所有的電容器擊穿會導(dǎo)致自愈現(xiàn)象或開路狀態(tài)。可能也會出現(xiàn)短路情況。 

介紹 

我們對于介質(zhì)擊穿的研究意在找出可以對這種現(xiàn)象加以描述的基本參數(shù)系列,及其與zui終產(chǎn)品的質(zhì)量和可靠性之間的關(guān)系。基本上,介質(zhì)擊穿可由一系列的物理過程產(chǎn)生:焦耳熱引起電導(dǎo)增加,從而導(dǎo)致熱擊穿;雪崩擊穿和場致發(fā)射擊穿;兩電極之間的引力,電化學(xué)衰變,枝狀結(jié)晶組織等原因?qū)е碌臋C(jī)電崩塌 等等。介質(zhì)擊穿導(dǎo)致絕緣體和兩極的擊毀,主要由于熔化和蒸發(fā)和有時隨后發(fā)生熱逃逸。為掌握鉭MIS(金屬-絕緣體-半導(dǎo)體)異晶結(jié)構(gòu)的更多數(shù)據(jù)和找到與介質(zhì)擊穿之間的關(guān)系,我們研究在兩中模式下的電流/電壓依賴工作參數(shù)(在正常模式下,鉭電極被施加正偏壓;在相反模式下,鉭電極被施加負(fù)偏壓)。 

擊穿擊毀不僅源于突發(fā)的擊穿情況,而且由于隨后的電流流動,從而使擊穿的起源和動力難于解釋。 

當(dāng)自愈情況出現(xiàn)時會出現(xiàn)一些特殊現(xiàn)象。在某些 情況中,薄弱點(diǎn)和體擊穿面積可以減少。在實(shí)驗(yàn)室實(shí)驗(yàn)中,熱擊穿可以被測量,而元件裝置不被毀壞;電擊穿可以被觀測到,而只出現(xiàn)zui小的損壞。輔助自愈過程也可以被推導(dǎo)出;氧元素可從二氧化錳負(fù)極中釋放出來,允許鉭二氧化物的再生或消除電子陷阱(類似于陽極化處理或鈍化過程),使在介質(zhì)層中的薄弱點(diǎn)減少。 

根據(jù)報告,導(dǎo)電聚合物材料有兩種自愈途徑。*個理論基于蒸發(fā)過程。聚合物的熔化和蒸發(fā)溫度相當(dāng)?shù)汀H珉娏麇e誤足以使聚合物加熱,則其可蒸發(fā)和消除掉其與該處的。 

自愈的第二個理論則認(rèn)為當(dāng)導(dǎo)電聚合物在故障處被加熱時,聚合物吸收氧元素,從而形成一個高電阻帽,封住了電流向該故障處的通路,與二氧化錳 MnO2 的自愈方式大致相同。 

介質(zhì)層的擊穿過程并不十分確定。我們的薄氧化膜實(shí)驗(yàn)表明電擊穿并不在施加電場的定義值(高)時出現(xiàn)。擊穿過程是隨機(jī)過程的結(jié)果,zui終的擊穿個案,多數(shù)情況下都為獨(dú)立事件。 

實(shí)驗(yàn) 

擊穿過程的識別,無論是熱擊穿或是電擊穿都可由 V-A (電壓/電流) 涵數(shù)加以在時域內(nèi)的測量確定出。[2], 在如上定義的正常模式和反的模式條件下。在這些實(shí)驗(yàn)里,裝置必須與電源和一系列電阻力小于裝置電阻的電阻連接在一起。這些電阻經(jīng)過實(shí)驗(yàn)性地選擇,以防止被連續(xù)擊穿和擊毀,范圍從 10Ω 至 1MΩ.之間。 

擊穿試驗(yàn)用于分析二氧化錳 MnO2 和導(dǎo)電聚合物技術(shù)的自愈過程。采用逐漸增加電流方法遞增電壓加載,直到電擊穿出現(xiàn)為止。電容器對擊穿故障點(diǎn)的自復(fù)/自愈能力用(電)壓減降方法和 IR(紅外)攝影機(jī)監(jiān)測。 

二氧化錳 MnO2正常模式下的電流傳送 

電流在正常模式通過MIS異晶機(jī)構(gòu)的通過情況 ( 本例為Ta-Ta2O5-MnO2 / 鉭-五氧化二/二氧化錳系統(tǒng))已在諸多論文中報告過 [例如:見 3,4]. 因此,我們只考慮物理結(jié)構(gòu)和傳送的基本原理. 電荷在正常模式下按照 Poole-Frenkel 和 Schottky 作用原理通過鉭電容器。可以設(shè)想電荷從二氧化錳電荷水平隧道式穿過五氧化二鉭Ta2O5介質(zhì)層的層間障礙。 五氧化二鉭Ta2O5 內(nèi)的電場助長電荷從電子陷阱內(nèi)的釋放,假定電荷以較低遷移率從一個陷阱跳到另一個陷阱。 Schottky 效應(yīng)通常被認(rèn)為是層間效應(yīng),而 Poole-Frenkel 效應(yīng)則被認(rèn)為是體(負(fù)阻)效應(yīng)。 

可以首先確定,電擊穿是以不定時間和不定位置出現(xiàn)在高電場內(nèi)。 

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