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什么是光刻技術
閱讀：1856 發布時間：2017-1-16
光刻技術主要應用在微電子中。它一般是對半導體進行加工，需要一個有部分透光部分不透光的掩模板，通過曝光、顯影、刻蝕等技術獲得和掩模板一樣的圖形。先在處理過后的半導體上涂上光刻膠，然后蓋上掩模板進行曝光；其中透光部分光刻膠的化學成分在曝光過程中發生了變化；之后進行顯影，將發生化學變化的光刻膠腐蝕掉，裸露出半導體；之后對裸露出的半導體進行刻蝕，zui后把光刻膠去掉就得到了想要的圖形。光刻技術在微電子中占有很大的比重，比如微電子技術的進步是通過線寬來評價的，而線寬的獲得跟光刻技術有很大的關系。
光刻技術就是在需要刻蝕的表面涂抹光刻膠，干燥后把圖形底片覆蓋其上，有光源照射，受光部分即可用藥水洗掉膠膜，沒有膠膜的部分即可用濃酸濃堿腐蝕表面。腐蝕好以后再洗掉其余的光刻膠。現在為了得到細微的光刻線條使用紫外線甚至X射線作為光源。