目錄:上海明策電子科技有限公司>>黑體爐>>Inframet 黑體爐>> Inframet BLIQ差分面源黑體
產地類別 | 進口 | 應用領域 | 生物產業,鋼鐵/金屬,制藥/生物制藥 |
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溫度范圍寬;
非常好的溫度穩定性:±2mK(標準)和1 mK(可選);
高速,易于PC控制;
抗EMI(電磁干擾)性能非常高(黑體與控制器集成)。
BLIQ黑體是使用三個溫度調節器構建的。 首先,標準Peltier元件能夠在約0oC至約100oC范圍內實現準確的溫度調節。第二,液體冷卻器用于將黑體溫度降低到零度以下。 第三,當溫度超過100oC時,可選加熱器進行調節溫度。
BLIQ黑體附有專用罩。 當使用干燥氮氣填充時,該罩可以保護黑體發射器免受結霜或濕氣冷凝的影響。
BLIQ黑體的特點是具有優異的溫度分辨率、時間穩定性、溫度均勻性和溫度不確定性。所有這些功能使得BLIQ黑體被用作測試/校準熱成像儀/ IR FPA模塊系統中的紅外輻射源的理想選擇,或國家標準實驗室的溫度標準。
主要事項:
BLIQ黑體作為TCB系列特殊版本,可以彌補TCB其他型號的不足:大尺寸面源,需要降溫到零下-40℃的溫度。BLIQ也有一些限制條件:
需要連接BLIQ黑體的安全罩(Inframet可提供)。 覆蓋罩須裝充有干燥的氮氣,以保護黑體發射器免受結霜或濕氣冷凝。 用戶需要提供干燥的氮氣。
安全罩不能有任何漏洞以免潮濕熱氣體進入罩內。測試成像儀的光學鏡頭必須覆蓋在罩中的輸入孔中。
罩長必須至少等于黑體發射面的大小。這意味著被測試的成像儀不能位于距BLIQ黑體發射器很短的距離。