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氧氮氫分析儀的序控溫分析功能和設備基本要求
氧氮氫分析儀由于分析器很重，應該放置在合適的平臺上。天平要放置在無振動的平臺上。天平可以放置在任何位置，為方便起見，一般放置在分析器的右邊比較合適。打印機和計算機的放置沒有特殊要求。可以放置在一般臺子上。
氧氮氫分析儀的序控溫分析功能：
對于氫的標準檢測，使用分離柱以便氮和氫單獨分別進入TCD檢測器。當氮和氫交替進入檢測器時，程序控溫分析對于標準氣路機構是無效的，因為辨別氮和氫的峰值是非常困難的。
進行程序控溫分析時要使用分離柱旁路機構，此時氮氣和氫氣一起進入TCD檢測器。接下來，氫氣被氧化并被共存氣體補償機構除去，因而只有氮氣進入TCD檢測器。最后，經過差分操作處理得到兩個檢測結果，進而決定氫的成分。
設備用途及基本要求：
用于定量檢測金屬材料中氧、氮、氫元素的含量，所標定的技術參數均為實際值的下限。要求出廠前預裝調試，保證各部件質量及匹配質量并以整機形式出廠，經久耐用，可靠性高，使用壽命長。
氧氮氫分析儀的維護保養：
1、更換試劑
高氯酸鎂：顆粒在試管中不能自由移動時應更換；
2、清掃脈沖熔融爐
一般分析后，可用干凈的綢布擦拭上下爐頭，并用洗耳球吹掃爐膛，防止粉塵污染爐頭及氣路。