您好, 歡迎來到化工儀器網(wǎng)！ 登錄| 免費(fèi)注冊| 產(chǎn)品展廳| 收藏商鋪|
您好, 歡迎來到化工儀器網(wǎng)！ 登錄| 免費(fèi)注冊| 產(chǎn)品展廳| 收藏商鋪|
當(dāng)前位置：北京中慧天誠科技有限公司>>技術(shù)文章>>射頻磁控濺射鍍膜裝置型號：YQ-DHRM-1
| 射頻磁控濺射鍍膜裝置型號：YQ-DHRM-1 | 貨號：ZH5493 |
| 產(chǎn)品簡介 主要由濺射鍍膜室、真空抽氣系統(tǒng)、氣源進(jìn)氣調(diào)節(jié)系統(tǒng)、襯底加熱溫度控制系統(tǒng)、射頻電源等部分組成。由于磁控濺射能夠地控制參數(shù)和提高膜層附著力、密度及均勻性，已成為沉積薄膜的重要方法，射頻磁控濺射具有沉積速率高，可以濺射材料，包括導(dǎo)體、半導(dǎo)體和介質(zhì)材料等特點(diǎn)。由于在低氣壓下濺射，因此膜層致密、針孔少、度高。 可開設(shè)的實(shí)驗(yàn) 1、掌握射頻磁控濺射法制膜的基本原理； 2、了解磁控濺射鍍膜儀的操作過程及使用范圍； 3、磁控濺射法制備金屬膜、半導(dǎo)體膜、化合物膜、介質(zhì)膜等薄膜。 主要參數(shù) 1、濺射鍍膜室：由不銹鋼底與玻璃鐘罩組成；尺寸：Φ220×H230mm3； 2、濺射鍍膜室本底真空：≤1Pa；濺射腔限真空：6×10-1Pa； 3、濺射靶：Φ50mm，濺射靶臺和濺射靶可調(diào)距離：20～60mm； 4、基片加熱溫度可控范圍：室溫～300℃； 5、射頻源功率：500W，13.56MHz； 6、氣路系統(tǒng)：由兩路轉(zhuǎn)子流量計(jì)控制（可選配流量計(jì)）； 7、真空系統(tǒng)：2XZ-4型旋片真空泵，抽氣速率：4L/S，單相220V交流電源供電； 8、對過流過壓、斷路等異常情況進(jìn)行報(bào)警，并執(zhí)行相應(yīng)保護(hù)措施； 9、供電電源：AC220V，50Hz，整機(jī)功率2KW。 |  |
請輸入賬號
請輸入密碼
請輸驗(yàn)證碼
以上信息由企業(yè)自行提供，信息內(nèi)容的真實(shí)性、準(zhǔn)確性和合法性由相關(guān)企業(yè)負(fù)責(zé)，化工儀器網(wǎng)對此不承擔(dān)任何保證責(zé)任。
溫馨提示：為規(guī)避購買風(fēng)險(xiǎn)，建議您在購買產(chǎn)品前務(wù)必確認(rèn)供應(yīng)商資質(zhì)及產(chǎn)品質(zhì)量。
