等離子清洗機顯著的特點是高均勻性輝光放電，根據不同氣體發出從藍色到深紫色的色彩可見光，材料處理溫度接近室溫。這些高度活躍微粒子和處理的表面發生作用，得到了表面親水性、拒水性、低摩擦、高度清潔、激活、蝕刻等各種表面改性。

等離子處理機的工藝：
  表面激活Surface Activation
  表面清潔Surface Cleaning
  顯微蝕刻Micro Etching
  等離子接枝、聚合Plasma Polymerization
  上述作用離子直接和處理物表面外層10 到1000A 厚度起作用，不影響材料其本身性能。
等離子處理機的優點：
1.環保技術：等離子體作用過程是氣- 固相干式反應 ,不消耗水資源、無需添加化學藥劑,對環境無污染。

2.廣適性：不分處理對象的基材類型,均可進行處理,對金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理，并可實現整體和局部以及復雜結構的清洗改性。

3.溫度低：接近常溫，特別適于高分子材料，比電暈和火焰方法有較長保存時間和較高表面張力。

4.功能強：僅涉及高分子材料淺表面（10 -1000A ），可在保持材料自身特性的同時，賦予其一種或多種新的功能； 

5.低成本：裝置簡單，易操作維修，可連續運行，往往幾瓶氣體就可以代替數千公斤清洗液,因此清洗成本會大大低于濕法清洗。

6.全過程可控工藝：所有參數可由電腦設置和數據記錄，進行質量控制。

7.等離子清洗機處理物幾何形狀無限制：大或小，簡單或復雜，部件或紡織品，均可處理。

等離子清洗機分類

按激發頻率分類

常用的等離子體激發頻率有三種：激發頻率為 40kHz的等離子體為超聲等離子體，13.56MHz的等離子體為射頻等離子體，2.45GHz的等離子體為微波等離子體。

不同等離子體產生的自偏壓不一樣，超聲等離子體的自偏壓為1000V左右，射頻等離子體的自偏壓為250V左右，微波等離子體的自偏壓很低，只有幾十伏，而且三種等離子體的機制不同。超聲等離子體發生的反應為物理反應，射頻等離子體發生的反應既有物理反應又有化學反應，微波等離子體發生的反應為化學反應。超聲等離子體清洗對被清潔表面產生的影響大，因而實際半導體生產應用中大多采用射頻等離子體清洗機和微波等離子體清洗機。

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