半導體器件生產過程中，受材料、工藝以及環境的影響，晶圓芯片表面會存在肉眼看不到的各種微粒、有機物、氧化物及殘留的磨料顆粒等沾污雜質，而等離子清洗機是合適的清潔工藝處理方法。

等離子清洗機在不破壞晶圓芯片及其他所用材料的表面特性、熱學特性和電學特性的前提下，清洗去除晶圓芯片表面的有害沾污雜質物，對半導體器件功能性、可靠性、集成度等顯得尤為重要；否則，它們將對半導體器件的性能造成致命缺陷和影響，很大地降低產品良率，并將制約半導體器件的進一步發展。

等離子清洗機的技術原理：在密閉的真空腔體中，通過真空泵不斷抽氣，使得壓力值逐漸變小，真空度不斷提高，分子間的間距被拉大，分子間作用力越來越小，利用等離子發生器產生的高壓交變電場將Ar、H2、N2、O2、CF4等工藝氣體激發、震蕩形成具有高反應活性或高能量的等離子體，進而與有機污染物及微顆粒污染物反應或碰撞形成揮發性物質由工作氣體流及真空泵將這些揮發性物質清除出去，從而達到表面清潔、活化、刻蝕等目的。