在半導體行業，晶圓作為硅錠的薄片，是眾多電子應用的基礎核心部件。而半導體晶圓拋光，作為準備晶圓投入使用的關鍵步驟，其質量直接影響著后續芯片制造的良品率和性能。在這一精密過程中，精確的力控制是制造出一致、高質量產品的核心要素，Proportion-Air的比例閥憑借其優秀性能，成為了半導體晶圓拋光領域的得力助手。
獨立精準，滿足多元拋光需求
在半導體晶圓拋光場景中，7個MM1比例閥被巧妙地安裝在SBM - 7子底座歧管上，共同承擔起控制彈簧加載氣缸上力的重任。這個底座設計十分精妙，擁有共同的進氣口和排氣口，實現了氣源的集中管理，簡化了系統布局。而每個MM裝置又具備獨立工作的能力，在必要時可根據不同晶圓的拋光要求，單獨精確調節壓力，從而控制氣缸施加在晶圓上的力。這種獨立又協同的工作模式，使得同一拋光系統能夠靈活應對多種規格和材質晶圓的拋光任務，大大提高了生產效率和設備的通用性。
閉式循環，電子控壓穩定可靠
MM系列作為具有成本效益的閉式循環閥門，在電子控制壓力方面表現出色。它能夠覆蓋從全真空到175 PSI的廣泛壓力范圍，無論是需要低壓精細拋光，還是正壓強力研磨，都能輕松勝任。其±0.2%全量程的準確性，確保了壓力控制的精準度，能夠將氣缸上的力精確調節到所需數值，為晶圓提供穩定且均勻的拋光壓力。±0.02%全量程的重復性更是保證了每次拋光過程中力的施加高度一致，使得每一片晶圓都能達到相同的拋光效果，有效提高了產品的一致性和質量穩定性。
耐用設計，適應惡劣工業環境
半導體生產車間的工作環境往往較為復雜，存在各種振動、灰塵和不穩定因素。MM系列比例閥充分考慮了這些實際工況，具備極其耐用的特性。它能夠承受工業環境中的各種挑戰，包括店鋪空氣中的雜質、設備運行產生的振動等，抗沖擊和振動能力高達25 Gs。即使在這樣惡劣的條件下，依然可以根據用戶的命令信號輕松、準確地控制壓力，確保拋光過程的連續性和穩定性，減少了因設備故障導致的生產中斷和晶圓損壞風險，為半導體企業降低了生產成本。
反饋靈活，實現閉環精準調控
MM系列比例閥還具備可配置外部反饋的優勢，能夠接受負載傳感器或其他類型的變送器作為第二個回路輸入。這一設計使得系統形成了閉環控制，通過實時監測氣缸上的實際壓力，并將反饋信號傳輸給比例閥，比例閥可以根據反饋信息及時調整輸出壓力，進一步提高了力控制的精度和響應速度。例如，當負載傳感器檢測到氣缸壓力因外界因素發生微小變化時，比例閥能夠迅速做出反應，將壓力調整回設定值，確保晶圓拋光過程始終處于最佳狀態。
多壓兼容，簡化系統復雜程度
MM系列比例閥的另一大亮點是可以在同一裝置中控制真空、低壓和正壓。這一特性極大地簡化了半導體晶圓拋光系統的設計，減少了所需設備的數量和系統復雜程度。在傳統的拋光系統中，可能需要多個不同類型的閥門來分別控制不同壓力范圍，而MM系列比例閥憑借其多壓兼容能力，一個閥門就能滿足多種壓力控制需求，不僅節省了空間和成本，還提高了系統的可靠性和可維護性。
規格多樣，安裝便捷適配性強
從技術規格來看，MM系列比例閥最大流可達1.2標準立方英尺每分鐘（34升每分鐘），能夠滿足不同規模拋光生產線的流量需求。1/8″ NPT（可選BSPP）的端口大小，方便與各種管道和設備連接。其工作溫度范圍為32 - 158°F (0 - 70°C)，過濾精度為40微米，能夠有效保護閥門內部零件，延長使用壽命。此外，它還提供了DIN導軌、面板和歧管等多種安裝選項，最多可在子基座集管上安裝12個MM，為企業根據自身生產場地和設備布局進行靈活安裝提供了便利。
Proportion-Air的比例閥以其獨立精準的控制能力、穩定可靠的閉式循環控壓、耐用的設計、靈活的反饋機制、多壓兼容特性以及多樣的規格和便捷的安裝方式，在半導體晶圓拋光領域發揮著重要作用，為半導體行業生產出高質量、一致性的晶圓產品提供了有力保障。如有需求，歡迎咨詢天津聯科思創科技發展有限公司。
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