首頁 >> 供求商機(jī)
貨物所在地：北京北京市
更新時間：2025-07-21 21:00:08
瀏覽次數(shù)：65
在線詢價收藏產(chǎn)品( 聯(lián)系我們，請說明是在 化工儀器網(wǎng) 上看到的信息，謝謝！）
CVD 化學(xué)氣相沉積（CVD）為一種薄膜沉積方法，其中將基材暴露於一種或多種揮發(fā)性氣體中，在基板表面上反應(yīng)或分解以生成所需的薄膜沉積物。這種方法通常用於在真空環(huán)境中製造高質(zhì)量與高性能的固體材料。因此，該製程通常在半導(dǎo)體工業(yè)中用於製造薄膜。
化學(xué)氣相沉積
Figure 1:化學(xué)氣相沉積的步驟
在典型的CVD中，將前驅(qū)物在室溫下進(jìn)料到反應(yīng)腔體中。當(dāng)它們與加熱的基板接觸時，它們發(fā)生反應(yīng)或分解以形成薄膜，並沉積在基材上。在此過程中，還會產(chǎn)生副產(chǎn)物，這些副產(chǎn)物可通過流經(jīng)反應(yīng)腔體的氣流除去。其製程溫度非常重要，會影響其化學(xué)反應(yīng)。
Figure 2: 示意圖-化學(xué)氣相沉積的步驟
(空格分隔,最多3個,單個標(biāo)簽最多10個字符)
3