產(chǎn)品名稱：橢圓偏振光譜儀

    產(chǎn)地：法國

    型號：UVISEL PLUS

典型用戶：NASA 戈達(dá)德太空飛行中心

01 儀器用途及應(yīng)用范圍：

UVISEL 是20 多年技術(shù)積累和發(fā)展的結(jié)晶，即使在透明的基底上也能對超薄膜進(jìn)行精確的測量。作為一款高準(zhǔn)確性、高靈敏度、高穩(wěn)定性的經(jīng)典橢偏機型，它采用了PEM 相位調(diào)制技術(shù)，與機械旋轉(zhuǎn)部件技術(shù)相比， 能提供更好的穩(wěn)定性和信噪比。

先進(jìn)功能材料

薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)表征

材料/ 表面改性研究

粗糙度、孔隙率表征

漸變層、界面層等分析

穿過率、反射率曲線測量

汽車

薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)表征

表面粗糙度、孔隙率表征

漸變層、界面層分析

透射率、反射率測量

涂層及鍍層分析

半導(dǎo)體材料

硅片上SiO₂ 薄膜厚度監(jiān)控

光刻膠n，k（190-2100nm）

SiN，SiO₂ 等膜厚測試

第三代半導(dǎo)體外延薄膜厚度

能源/光伏

薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)表征

工藝對鍍膜的影響分析

漸變層、界面層等分析

膜層不均勻性成像分析

在線監(jiān)測

02 產(chǎn)品特點

50 KHz 高頻PEM 相調(diào)制技術(shù)，測量光路中無運動部件

具備超薄膜所需的測量精度、超厚膜所需的高光譜分辨率

多個實用微光斑尺寸選項

可用于在線實時監(jiān)測

自動平臺樣品掃描成像、變溫臺、電化學(xué)反應(yīng)池、液體池、密封池等

配置靈活，測量范圍可擴(kuò)展至190 nm~2100 nm

03 索取樣本、聯(lián)系報價

如果您想了解更多關(guān)于產(chǎn)品儀器信息、索要儀器報價，歡迎掃描二維碼留言，我們的工程師將會及時與您取得聯(lián)系。

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