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以下是TNB培養(yǎng)基的成分，本品僅用于研發(fā)，而不是用于藥物、家庭或其他用途。配制途中可因培養(yǎng)物不同而適當(dāng)添加或減少其他成份。
YNB培養(yǎng)基的成分
Nitrogen Source（氮源）
Ammonium Sulfate（硫酸銨）...............................................5g
Vitamins（維生素）
Biotin（生物素）........................................................2μg
Calcium Pantothenate（泛酸鈣）........................................400μg
Folic Acid（葉酸）....................................................2.0μg
Inositol（肌醇）..................................................2,000.0μg
Niacin（煙酸）....................................................... 400μg
p-Aminobenzoic Acid（對氨基苯甲酸）.......................................... 200μg
Pyridoxine Hydrochloride（鹽酸吡哆醇）....................................400μg
Riboflavin（核黃素）...................................................200μg
Thiamine Hydrochloride（鹽酸硫胺）....................................... 400μg
Compounds Supplying Trace Elements（供應(yīng)微量元素的化合物）
Boric Acid（硼酸）................................................... 500μg
Copper Sulfate（硫酸銅）...............................................40μg
Potassium Iodide（碘化鉀）............................................100μg
Ferric Chloride?（三氯化鐵）.............................................200μg
Manganese Sulfate（硫酸錳）...........................................400μg
Sodium Molybdate（鉬酸鈉）.............................................200μg
Zinc Sulfate（硫酸鋅）................................................. 400μg
Salts（鹽）
Monopotassium Phosphate（磷酸二氫鉀）........................................1g
Magnesium Sulfate（硫酸鎂）..............................................0.5g
Sodium Chloride（氯化鈉）................................................0.1g
Calcium Chloride（氯化鈣）...............................................0.1g
YNB培養(yǎng)基的滅菌方法
過濾滅菌：一些植物生長調(diào)節(jié)劑及有機(jī)物，如IAA、GA3、ZT、CM等，遇熱容易分解，不能與培養(yǎng)基一起進(jìn)行高溫滅菌，而要使用細(xì)菌過濾器濾去其中的雜菌。細(xì)菌過濾器與濾膜（孔徑0.45微米）使用之前要行高壓滅菌。過濾后的溶液要立即加入培養(yǎng)基中，若為液體培養(yǎng)基，可在培養(yǎng)基冷卻30℃時(shí)加入；若為固體培養(yǎng)基，必須在培養(yǎng)基凝固之前（50-60℃）加入，振蕩使溶液與其他成分混合均勻。
以上是YBN培養(yǎng)基的成分，YNB培養(yǎng)基對于有的微生物及微生物的特殊目的的培養(yǎng)，還要注意氣體因素以及光照刺激。