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VTC-2RF-等離子鍍膜設(shè)備
  • VTC-2RF-等離子鍍膜設(shè)備
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貨物所在地:安徽合肥市

更新時(shí)間:2025-04-15 21:00:08

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等離子鍍膜設(shè)備是一款小型的射頻(RF)等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng),系統(tǒng)中包含了所有所需的配件,如300W(13.5MHz)的RF電源、2“的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對(duì)于制作一些金屬薄膜及非金屬薄膜,它是一款物美價(jià)廉的實(shí)驗(yàn)幫手。

等離子鍍膜設(shè)備是一款小型的射頻(RF)等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng),系統(tǒng)中包含了所有所需的配件,如300W(13.5MHz)的RF電源、2“的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對(duì)于制作一些金屬薄膜及非金屬薄膜,它是一款物美價(jià)廉的實(shí)驗(yàn)幫手。

等離子鍍膜設(shè)備詳細(xì)說(shuō)明

   VTC-2RF是一款小型的射頻(RF)等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng),系統(tǒng)中包含了所有所需的配件,如300W13.5MHz)的RF電源、2"的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對(duì)于制作一些金屬薄膜及非金屬薄膜,它是一款物美價(jià)廉的實(shí)驗(yàn)幫手。
我們用此設(shè)備得到擇優(yōu)取向的ZnO薄膜


等離子鍍膜設(shè)備技術(shù)參數(shù)

輸入電源

  • 220VAC 50/60Hz, 單相
  • 800W  (包括真空泵)

等離子源

一個(gè)300W,13.5MHz的射頻電源安裝在移動(dòng)柜內(nèi)

(點(diǎn)擊圖片查看詳細(xì)資料)

 

磁控濺射頭

  • 一個(gè) 2英寸磁控濺射頭(帶有水冷夾層),采用快速接頭與真空腔體相連接
  • 靶材尺寸: 直徑為50mm,zui大厚度6.35mm
  • 一個(gè)快速擋板安裝在法蘭上(手動(dòng)操作,見(jiàn)圖左3)
  • 濺射頭所需冷卻水:流速10ml/min(儀器中配有一臺(tái)流速為16ml/min的循環(huán)水冷機(jī))
  • 同時(shí)可選配1英寸濺射頭

真空腔體

  • 真空腔體:160 mm OD x 150 mm ID x  250mm H,采用高純石英制作
  • 密封法蘭:直徑為165 mm .  采用金屬鋁制作,采用硅膠密封圈密封
  • 一個(gè)不銹鋼網(wǎng)罩住整個(gè)石英腔體,以屏蔽等離子體
  • 真空度:10-3 Torr (采用雙極旋片真空泵)
  •         10-5 torr (采渦旋分子泵)

載樣臺(tái)

  • 載樣臺(tái)可旋轉(zhuǎn)(為了制膜更加均勻)并可加熱
  • 載樣臺(tái)尺寸:直徑50mm (zui大可放置2英寸的基片)
  • 旋轉(zhuǎn)速度:1 - 20 rpm
  • 樣品的zui高加熱溫度為700℃,(短期使用,恒溫不超過(guò)1小時(shí)),長(zhǎng)期使用溫度500℃
  • 控溫精度+/- 10℃

真空泵

可選用直聯(lián)式雙極旋片泵,也可選用德國(guó)制作的分子泵系統(tǒng)

   

薄膜測(cè)厚儀

  • 一個(gè)精密的石英振動(dòng)薄膜測(cè)厚儀安裝在儀器上,可實(shí)時(shí)監(jiān)控薄膜的厚度,分辨率為0.10 ?  
  • LED顯示屏顯示,同時(shí)也輸入所制作薄膜的相關(guān)數(shù)據(jù)

外形尺寸

              

質(zhì)保和質(zhì)量認(rèn)證

  • 一年質(zhì)保期,終生維護(hù)
  • CE認(rèn)證

使用注意事項(xiàng)

  • 這款2英寸的射頻濺射鍍膜儀主要是用于在單晶基片上制備氧化物膜,所以并不需要太高的真空度
  • 為了較好地排出真空腔體中的氧氣,建議用5%H2+95 %N2對(duì)真空腔體清洗,可有效減少真空腔體中的氧含量
  • 請(qǐng)用純度大于5N的Ar來(lái)進(jìn)行等離子濺射,甚至5N的Ar中也含有10- 100 ppm的氧和水,所以建議將鋼瓶中的惰性氣體通過(guò)凈化系統(tǒng)過(guò)后,再導(dǎo)入到真空腔體內(nèi)

 

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