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　　光譜學是一種測量紫外、可見、近紅外和紅外波段光強的技術。光譜測量廣泛應用于許多領域，如顏色測量、化學成分濃度測量或輻射分析、膜厚測量、氣體成分分析等領域。光纖光譜儀的基本配置包括光柵、狹縫和檢測器。光譜儀的性能取決于這些組件的組合和校準。校準后的光纖光譜儀，原則上這些配件不能有任何變化。低雜散光光譜儀是生命科學、醫療診斷、半導體與光伏產業、食品與農業、地理與礦物學、制藥業、環境科學、司法鑒定等領域的理想檢測工具。

　　低雜散光光譜儀采用非交叉光路設計，大大提高了紫外響應，減少了雜散光的影響，是一種高靈敏度的面陣探測器，是理想的高性能光譜測量產品。由于更寬的線性工作范圍，它特別適用于透射和吸光度檢測。超低雜散光和高靈敏度的結合也使顏色測量更快。

　　光譜儀包含光學平臺，大大減少雜散光，提高機械和溫度穩定性。這種新型光學平臺內置雙模消除器和多級復合拋物面鏡，雜散光降低至0.04%，是標準光譜儀的2.5倍。除了顯著改善雜散光外，這種新型光學平臺還將光譜儀的機械強度提高了10倍以上，使其對機械變形和溫度變化的敏感度降低。

　　低雜散光光譜儀可大大減少雜散光，提高機械和溫度穩定性。這種新型光學平臺具有兩個光闌和多個光阱，可以將雜散光抑制到0.04%，是普通光譜儀的2.5倍。新的光學平臺在改善雜散光的同時，機械剛性也大大提高，微彎和溫漂對光譜儀的影響降低了10倍。特別適用于需要測量高吸光度的應用，如高化學濃度、高光密度光學元件和長光程測量。這種新型光學平臺和光譜儀適用于OEM應用和單臺儀器應用。