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iEDX-150Tx射線熒光光譜鍍層厚度測試儀

　　我公司銷售產品包括X射線熒光光譜儀（含能量色散和波長色散型）（XRF）、電感耦合等離子體發射光譜儀（ICP）、電感耦合等離子體質譜儀(ICP-MS)、原子熒光光譜儀（AFS）、原子吸收分光光度計（AAS）、光電直讀光譜儀（OES）、氣相色譜儀（GC）、氣相質譜儀（GC-MS）、液相色譜儀（LC）、液相質譜儀（LC-MS）、能譜儀（EDS）、高頻紅外碳硫分析儀（CS）、礦漿載流在線采樣儀（OSA）等。

　　應用領域

　　分析各種電鍍鍍層厚度

　　技術指標

　　多鍍層分析，1～5層；

　　測試精度：0.001μm；

　　元素分析范圍從鋁(Al)到鈾(U)；

　　測量時間：10~30秒；

　　SDD探測器，能量分辨率為125±5eV；

　　探測器Be窗0.5mil（12.7μm）；

　　微焦X射線管50kV/1mA，鉬，銠靶（高配微焦鉬靶）；

　　6個準直器及多個濾光片自動切換；

　　高清CCD攝像頭（200萬像素），準確監控位置；

　　多變量非線性去卷積曲線擬合；

　　高性能FP/MLSQ分析；

　　軟件支持無標樣分析；

　　寬大分析平臺和樣品腔；

　　集成了鍍層分析界面和合金成份分析界面；

　　采用多種光譜擬合分析處理技術；

　　鍍層測厚分析可達到0.001μm。

　　單層厚度范圍：

　　金鍍層0－8um,

　　鉻鍍層0-15um,

　　其余一般為0-30um以內，

　　可最小測量達0.001um。

　　2.3、多層厚度范圍

　　Au/Ni/Cu:Au分析厚度:0-8umNi分析厚度:0-30um

　　Sn/Ni/Cu:Sn分析厚度:0-30umNi分析厚度:0-30um

　　Cr/Ni/Fe:Cr分析厚度0-15umNi分析厚度:0-30um

　　2.4、鍍層層數為1-6層

　　2.5、鍍層精度相對差值一般<5%。

　　2.6、鍍層成分含量：Sn-Pb合金成分分析；Zn-Ni合金成分分析。

　　單層分析精度，以Ni舉例：（相對差值）

　　Ni層厚度(um)

　　保證精度

　　<1.0um

　　<5%

　　1.0-5.0um

　　<3%

　　5.0-10um

　　<3%

　　10-20um

　　<3%

　　>20.0um

　　<3%

　　分析報告結果

　　直接打印分析報告；

　　報告可轉換為PDF，EXCEL格式。

　　iEDX-150Tx射線熒光光譜鍍層厚度測試儀