濕法刻蝕顯影清洗系統(tǒng)

• 顯影機
• 半自動旋涂顯影刻蝕機
• EDC系列
• WS1000系列
• Ultra T

勻膠機/勻膠旋涂儀

• ST20系列
• M6系列
• 650系列
• SPIN系列
• KW系列

狹縫涂布儀

掩膜曝光光刻機

• Mask Aligner光刻機
• Mask Aligner系列
• NXQ系列

納米壓印光刻機

• NIL系列

快速退火爐

• 國產(chǎn)
• AS系列
• SSI系列

烤膠機/熱板

• 德國Harry
• M-HP
• UNIXX系列
• AS系列加熱板
• EHP系列加熱板
• SPS系列加熱板

紫外臭氧清洗機

• PSD系列
• UVO系列
• Jelight系列

紫外固化機/紫外固化箱

• UV-210系列
• ELC系列
• Intelli-Ray系列
• ECE系列

等離子去膠機

• PIE等離子去膠機

超聲波清洗機

• 超聲波清洗器（單頻）
• 超聲波清洗機配套干燥設(shè)備

等離子清洗機

• 大氣常壓等離子清洗系統(tǒng)
• HPC小型射頻等離子清洗機
• PIE小型等離子清洗機
• PPC微波等離子清洗機
• PE等離子表面處理清洗機
• STAR系列等離子清洗機
• Anatech等離子刻蝕機
• SCE射頻等離子清洗系統(tǒng)

原子層沉積系統(tǒng)

• Plasmionique

光學(xué)膜厚儀

探針臺

• Micromanipulator-探針臺
• MicroXact探針臺
• 四點探針系統(tǒng)
• 低溫探針臺

壓片機/液壓機

• 等靜壓機
• 標準型實驗室壓片機
• 加熱型手動壓片機
• 自動臺式實驗室壓片機
• 壓實密度儀
• 實驗室電動壓片機
• 層壓機
• Dake手壓機
• Dake壓片機
• WABASH平板硫化機

制樣機

• 氣動制樣機
• 仿形制樣機
• 射模制樣機
• 缺口制樣機

接觸角測角儀

手持式表面分析儀

干冰清洗機

注射泵

顯微鏡檢測系統(tǒng)

• Omni系列
• Inspex系列
• ion系列

程序剪切儀

• 裁切機
• 剪切儀
• 層壓儀
• 切膜機

環(huán)氧樹脂

韓國波導(dǎo)樹脂

光學(xué)試劑

• 美國Cargille光學(xué)試劑
• 美國Cargille光學(xué)浸入液
• 美國Cargille激光液
• 美國Cargille封片劑
• 美國Cargille硼酸片
• 美國Cargille顯微鏡浸油/香柏油
• 美國Cargille光學(xué)試劑/光纖匹配膏
• 美國Cargille折射率匹配液
• Naphrax 硅藻膠

鈣鈦礦材料

• 鈣鈦礦前體材料
• 鈣鈦礦前體油墨
• 空穴傳輸材料&摻雜物
• 密封劑
• 添加劑材料/改性劑材料
• 玻璃基板
• 電解質(zhì)/電解液
• 染料&光敏劑
• 配體材料&中間分子材料
• 二氧化鈦膏&鉑膏

光刻膠

• SU-8膠
• 顯影液
• Futurrex光刻膠
• 納米光刻壓印膠

碳紙

防潮箱

馬弗爐

培養(yǎng)箱

蠕動泵

熱循環(huán)儀

離心機

• 高速冷凍離心機

手套箱

天平

鍵合機

• JFP引線鍵合機

紫外交聯(lián)儀

• UVP紫外交聯(lián)儀

膜厚監(jiān)測儀

離子濺射儀

攪拌脫泡機

橢偏儀

自動涂膜器

分光光度計

• 紅外光譜儀

點膠機

噴涂機

晶圓片

密度測試儀

臨界點干燥儀

光譜儀

太陽光模擬器

干燥機

• 旋轉(zhuǎn)沖洗干燥機

Norland膠水

• 光學(xué)膠

真空回流焊爐

過濾器

切割機

• 晶圓切割機

電鏡耗材

Alconox清潔劑

有機光伏材料

鈣鈦礦界面材料

Rondol擠壓機

切割設(shè)備

• 切條機
• 模具矩陣擴展器
• 晶圓清洗機
• 晶圓貼片機

超聲波細胞粉碎機

• SCIENTZ-IID

低溫水循環(huán)

水浴油浴

蒸發(fā)器

凍干機

• 箱式凍干機
• SCIENTZ-50F 中試型硅油原位凍干機

剝離器

• 超聲波二維材料剝離器

紫外掩膜曝光系統(tǒng)

• UV-KUB 3
• UV-KUB2

涂布機

• 薄膜涂布機

恒電位儀

源測量單元

太陽能電池IV測試系統(tǒng)

太陽模擬器

LED測量系統(tǒng)

顯微鏡

干燥箱

霍爾效應(yīng)測試儀

芯片熱管理分析系統(tǒng)

滅菌鍋

鍍膜設(shè)備