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邁可諾技術有限公司

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集成電路制造的關鍵材料是什么-光刻膠

閱讀:133 發布時間:2020/09/22

為了獲得大的過程可靠性,在涂覆SU-8 2000抗蝕劑之前,基材應清潔干燥。 為了獲得很好的結果,應使用食人魚濕法蝕刻(使用H2SO4和H2O2)清潔基材,然后用去離子水沖洗。

基材也可以使用反應離子蝕刻進行清潔

(RIE)或任何裝有氧氣的桶式灰燼。 通常不需要粘合促進劑。 對于包括電鍍的應用,建議使用MCC Primer 80/20(HMDS)對基材進行預處理。

涂層

SU-8 2000抗蝕劑有十二種標準粘度。 本加工指南文件涉及四種產品:SU-8 2025,SU-8 2035,SU-8 2050和SU-82075。圖1。

提供選擇合適的SU-8 2000抗蝕劑和旋轉條件以實現所需膜厚所需的信息。

推薦節目

1.)為基板直徑的每英寸(25毫米)分配1ml的抗蝕劑。

2.)以100 rpm /秒的加速度在500 rpm下旋轉5-10秒。

3.)以300 rpm /秒的速度在2000 rpm下旋轉30秒。




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