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邁可諾技術有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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聯(lián)系電話
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主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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M6SpinCoater可旋涂處理小碎片至6英寸圓晶圓片，使用無刷直流雙向旋轉馬達控制，轉速穩(wěn)定，控制器可拆卸配合手套箱使用，4.3英寸全彩觸屏人機界面操作，簡單易用。M6SpinCoater外形美觀...
干涉儀是利用干涉原理測量光程之差從而測定有關物理量的光學儀器。兩束相干光間光程差的任何變化會非常靈敏地導致干涉條紋的移動，而某一束相干光的光程變化是由它所通過的幾何路程或介質(zhì)折射率的變化引起，所以通過...
WS-1000WetStation濕法刻蝕設備，全白色聚丙烯構造，可內(nèi)置任何Laurell公司的旋涂機及顯影機，排放簡便的入氮口和DI噴頭，如果需要單工的系統(tǒng)，可選擇WS-1000M濕法刻蝕設備，WS...
EDC-650系列勻膠顯影系統(tǒng)適用于半導體前段制程的勻膠，顯影，刻蝕，沖洗，甩干等工藝，可通過程序控制多路試劑的顯影和濕法腐蝕，我們有著近三十年半導體濕法工藝的經(jīng)驗積累，通過對各路試劑注射的準確控制，...
MR200晶圓劃片機手動劃線可準確切割結構化硅晶片的制造MR200的設置可為結構化硅晶片切割提供高精度劃線。MR200是*的工具，特別是對于半導體技術中的REM制備。MR200還適用于少量芯片的單芯片...
Harrick等離子體表面處理儀的應用范圍：*清洗電子元件、光學器件、激光器件、鍍膜基片、芯片。*清洗光學鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。*移除光學元件、半導體元件等表面的光阻物質(zhì)。*清洗ATR元...
臺式狹縫涂布機結構緊湊，價格實惠，使用簡單。體積小巧，但外殼堅固，系統(tǒng)準確度高-對于那些希望在小型實驗室中擴大其加工技術的人來說，它是非常棒的選擇。狹縫涂布系統(tǒng)為您的研究提供以下益處：?不銹鋼槽模頭為...
鈣鈦礦太陽能電池涂膜工藝行業(yè)內(nèi)Laurell勻膠機/SpinCoater，從1985年開始，30多年，用戶過百萬！應用于鈣鈦礦太陽能電池薄膜制備，現(xiàn)當前型號WS-650-23B勻膠機，在許多實驗室可找...
