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Oxford 鍍層膜厚儀CMI233測(cè)厚儀
- 發(fā)布日期：
- 有效日期：
- 所 在 地：
- 產(chǎn) 地：
- 已獲點(diǎn)擊：
- 2024年8月21日
- 2026年4月17日
- 廣東深圳市
- 美國(guó)
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【產(chǎn)品簡(jiǎn)介】
【詳細(xì)說明】
Oxford 鍍層膜厚儀CMI233測(cè)厚儀
Oxford 鍍層膜厚儀CMI233測(cè)厚儀，測(cè)試采用電渦流原理的測(cè)厚儀，原則上對(duì)所有導(dǎo)電體上的非導(dǎo)電體覆層均可測(cè)量，如航天航空器表面、車輛、家電、鋁合金門窗及其它鋁制品表面的漆，塑料涂層及陽(yáng)極氧化膜。覆層材料有一定的導(dǎo)電性，通過校準(zhǔn)同樣也可測(cè)量，但要求兩者的導(dǎo)電率之比至少相差3-5倍（如銅上鍍鉻）。雖然鋼鐵基體亦為導(dǎo)電體，但這類任務(wù)還是采用磁性原理測(cè)量較為合適。
參數(shù)規(guī)格：
型號(hào)：CMI233+ECP(探頭)
品牌：英國(guó)牛津儀器Oxford
測(cè)量范圍：0-1.52mm（0-60mils）
測(cè)量精度：依照參考標(biāo)準(zhǔn)片±0.1um
單位：um/mils
尺寸：14.9X7.94X3.02cm
重量：260g(含電池)
電源：9V電池
注意：該儀器還可進(jìn)行涂層側(cè)后，可選購(gòu)探頭SMP-2
檢測(cè)原理：
高頻交流信號(hào)在測(cè)頭線圈中產(chǎn)生電磁場(chǎng)，測(cè)頭靠近導(dǎo)體時(shí)，就在其中形成渦流。測(cè)頭離導(dǎo)電基體愈近，則渦流愈大，反射阻抗也愈大。這個(gè)反饋?zhàn)饔昧勘碚髁藴y(cè)頭與導(dǎo)電基體之間距離的大小，也就是導(dǎo)電基體上非導(dǎo)電覆層厚度的大小。由于這類測(cè)頭專門測(cè)量非鐵磁金屬基材上的覆層厚度，所以通常稱之為非磁性測(cè)頭。非磁性測(cè)頭采用高頻材料做線圈鐵芯，例如鉑鎳合金或其它新材料。與磁感應(yīng)原理比較，主要區(qū)別是測(cè)頭不同，信號(hào)的頻率不同，信號(hào)的大小、標(biāo)度關(guān)系不同。與磁感應(yīng)測(cè)厚儀一樣，渦流測(cè)厚儀也達(dá)到了分辨率0.1um，允許誤差1%，量程10mm的高水平。
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