優異的生物相容性 光刻膠 SU-8是一種具有高分辨率、高精度和高附著性的光刻膠，可用于制備復雜、精細的微型結構，能夠在厚度從低于1μm到超過300μm的范圍內旋涂，或用于超過1mm厚的干膜的層壓，同時SU-8擁有良好的光學特性（透明度），較大高寬比，優異的生物相容性，出色的熱穩定性和化學穩定性。

SU-8光刻膠在近紫外光（365nm-400nm）范圍內光吸收度很低，整個光刻膠層所獲得的曝光量均勻一致，因此可以得到具有垂直側壁和高深寬比的厚膜圖形。

SU-8光刻膠具有高機械強度，可用于平坦化的化學機械拋光SU-8光刻膠可以形成臺階等結構復雜的圖形，并可以直接作為絕緣體在電鍍時使用。

SU-8光刻膠還具有優秀的成像能力，可以制作出大高寬比的結構（紫外光源曝光下高寬比可達10:1，X射線光源下高寬比可達100:1）。同時其透光性優異，可以在毫米級厚度的膜層上制作出垂直度好的側壁。

SU-8可以用來做什么？

SU-8光刻膠在MEMS（微機電系統）領域有著廣泛應用，例如光波導、微透鏡、光學陣列等光學器件，以及微流控芯片、微電機陣列等微機械系統，制作電鍍模具，傳感器，微納結構等。

在微流控芯片中，SU-8光刻膠被用于制備微流道、反應室、閥門、泵等微型結構，并且可用于芯片的封裝。

它還可以作為微流控芯片的封裝材料，用于制備上下蓋板和連接件、密封件等。

SU-8光刻膠廣泛應用于MEMS領域，如光波導、微透鏡、光學陣列等光學器件，還可用于制作細胞培養及篩選芯片、分子診斷芯片等生物芯片的關鍵結構。

優異的生物相容性 光刻膠 SU-8光刻工藝

傳統獲得SU-8光刻結構的方式是有掩模光刻，但是有掩模光刻機光刻SU8時，光刻機需要掩模版與光刻膠上表面緊密接觸以提高光刻精度，因此隨著時間的推移，涂有SU-8的晶圓片不可避免地會粘在掩模版上。這些膠會影響接觸式光刻機的分辨率；它還可能導致掩模版上的鉻特征結構受到不可逆轉的損傷。

然而托托科技的無掩模光刻技術則不需要制備掩模版，直接通過計算機控制空間光調制器或激光直寫等設備將芯片圖案直接投射到SU-8光刻膠上進行加工。避免了光刻膠粘版問題，分辨率也可以保證甚至是更高。