Phenom Pharos G2 —— 性能*的飛納臺式場發射掃描電鏡

荷蘭飛納公司推出第二代肖特基場發射電子源臺式掃描電鏡 Phenom Pharos G2, 集背散射電子成像、二次電子成像和能譜分析功能于一體。高亮度肖特基場發射電子源，使用戶可以輕松獲得高分辨率圖像，且低電壓性能優異。Phenom Pharos G2 低電壓成像優勢明顯，可減輕電子束對樣品的損傷和穿透，更好地觀測絕緣和電子束敏感的樣品，可以還原樣品真實形貌。

Phenom Pharos G2 —— 電鏡能譜一體化設計

Phenom Pharos 飛納臺式場發射電鏡采用熱場發射電子源，信噪比高，使用壽命長，保證長期穩定的性能。飛納臺式場發射掃描電鏡能譜一體機標配背散射電子成像、二次電子電子成像和能譜分析功能，可對各種樣品進行高分辨成像及元素分析。

飛納臺式場發射電鏡的技術優勢

• 分辨率優于 1.8 nm

• 低電壓下可得到高分辨樣品的圖像，表面細節豐富

• 彩色光學顯微鏡全景導航

• 集成全自動馬達樣品臺

• 操作簡單，培訓 30 分鐘即可上手

• 內置真空鎖，15 秒抽真空

• 無需噴金，直接觀察不導電樣品

• 電子束流大，穩定，能譜分析效率高

• 內置 27 組獨立減震單元，*防震

• 電子光路免維護

維護成本低

飛納電鏡系列產品性能穩定，可以長時間工作，自動化程度高，大量節省了人力成本。飛納臺式場發射掃描電鏡的燈絲使用穩定，壽命長，電子光路免維護，后期維護簡單。飛納電鏡系列產品加入了硬件防護設計，杜絕人為操作不當引起設備故障；同時，提供免費的遠程聯網檢測，實時維護您的電鏡。