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Aridus 3 膜去溶霧化系統:專門為ICP-MS進樣分析研發設計的進樣系統,其能夠最大增強10倍信號強度,同時能夠去除溶劑干擾,極大地降低信號基線,基本上消除氫氧化物干擾。
Aridus進樣系統是把微量霧化器和膜去溶技術相結合,具有如下特性:
具有膜去溶的低流量(<100 µL/min)的微量霧化器
減少了溶劑對ICP-MS的干擾
家氮以增強ICP-MS的信號
所有于樣品相關的部件均為惰性材料制成
泵抽霧化室和溶劑蒸汽瓶的廢液
可與所有ICP-MS 相聯
可與ASX-100微量自動進樣器想配
Aridus進樣系統采用的低流量、氟材料的微量霧化器,而其性能優于高流量的常用的同心型霧化器。以大約60 µL/min常用樣品提升量,Aridus只需小于1mL的樣品就能分析所有的元素。同時Aridus全部采用惰性材料,可應用于含HF酸的樣品。采用泵抽出霧化室和溶劑蒸汽瓶的廢液進一步提高了穩定性。
從霧化室出來的樣品氣溶膠進入加熱的氟材料隔膜,用一反向氬“穿透氣”帶走從膜滲透出來的溶劑蒸汽。
減小了ICP-MS的干擾
Aridus膜去溶能有效去除樣品溶劑蒸汽,顯著地減少諸如來自水中的氧化物、氫化物的干擾,下圖比較了標準氣動霧化器與Aridus系統的CeO/Ce 比率,該CeO/Ce比率從3% 減少為0.05%。
其他水基的干擾ArH +(39)、CO2+(44)、ArO+(56)有明顯的減少,從而使Li、Na、Mg、K、Ca、Fe的檢出限得到明顯改善。
配備Aridus的ICP-MS檢出限:(在普通環境、非冷焰的條件下,ELAN6000型ICP-MS)
Element | m/z | Detection Limit (ng/L) | Element | m/z | Detection Limit (ng/L) |
Li | 7 | 0.4 | K | 39 | 8 |
Na | 23 | 15 | Ca | 44 | 300 |
Mg | 24 | 6 | Fe | 56 | 10 |
增強ICP-MS的信號
在膜去溶后加如少量(5 到 20 mL/Min)的氮能提高分析信號。
的信號穩定性
Aridus的1小時信號穩定性:RSD<3%(用Mg24、Co59、Ce140、Pb208 4個通常調諧元素來測定)
Aridus的10小時信號穩定性:RSD<5%(用Mg24、Co59、Ce140、Pb208 4個通常調諧元素來測定)