OTF-1200X-4-C4LVS 雙管爐是 一個特殊的雙管CVD系統,是專門為在金屬箔上生長薄膜而設計,特別是應用在新一代能源關于柔性金屬箔電極方面的研究，通過滑動爐子實現快速加熱和冷卻。請點擊下圖觀看爐子的工作原理。
OTF-1200X-4-C4LVS 雙管爐是 一個特殊的雙管CVD系統,是專門為在金屬箔上生長薄膜而設計,特別是應用在新一代能源關于柔性金屬箔電極方面的研究，通過滑動爐子實現快速加熱和冷卻。請點擊下圖觀看爐子的工作原理。
特點:
1.雙石英管：外管直徑100mm ，懸掛的內管直徑 80. 金屬箔纏繞在內管的外表面上發生CVD反應。
2.雙管的真空密封法蘭：允許反應氣體通過兩管之間（10mm間隙）發生反應，冷卻氣體直接通入內管.
3.四通道質量流量計控制4路氣體。
4.配有KF25快接和波紋管的高速機械泵。
5.爐子底部裝有滑軌：爐子可以從一端滑向另一端，從而實現快速升溫和降溫.
技術參數
| 爐體結構 | - 高純 Al2O3保溫材料，保證了爐膛有*的溫度均勻性.
- 內爐膛表面涂有美國進口的1750度高溫氧化鋁涂層可以提高設備的加熱效率，同時也可以延長儀器的使用壽命
- 爐子底部的冷卻風扇保證了熱量正常對外釋放.
- 密封法蘭系統全不銹鋼制作。
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| 電源 | 電源:208-240VAC, 50/60Hz, 單相, 2.5KW ( 20A 保險絲) |
| 加熱溫度 | - zui高溫度: 1100°C
- 連續溫度: 1000°C
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| 加熱區 | - 加熱區長度: 440mm
- 恒溫區長度: 120mm (±1°C) @400~1100°C
- 選擇:
- 雙溫區爐可獲得t 240mm 的恒溫區
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| 加熱 | 冷卻 |
| 石英管 | 外管: OD: 4"x ID: 3.8"X55" Length (OD100 x ID 96 x 1400, mm )
內管: OD:3.15: x ID x 2.95" x 55" Length (OD80 x ID 75 x 1800 mm ) |
| 真空法蘭 | - 一對 SS304不銹鋼法蘭，通過用兩個高溫“O"型圈緊密密封可獲得高真空。
- 爐子底部裝有一對滑軌
- 爐子可以手動從一端滑向另一端，實現快速的加熱和冷卻。
- 為了得到較快的加熱速度，可以先將爐子預熱，然后滑到放置樣品的位置。
- 為了獲得較快的冷卻的速度，把爐子滑向另一端，同時將冷卻氣體通入 樣品所在的位置。
極限真空度: 10^-2 torr (機械泵)
10^-5 torr (分子泵) |
| 可選 | 本公司進口的防腐型數字式真空顯示計，其測量范圍為3.8x10-5 至 1125 Torr. 不需因測量氣體種類不同而需要系數轉換。（點擊圖片查看詳細介紹）
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| 溫控儀 | 溫控儀:帶超溫保護和PID調節的 30 段程序控制。 控溫儀表操作視頻
控溫精度: +/-1°C |
| 混氣系統 | 4路精密質子流量計：數字顯示、氣體流量自動控制.- MFC 1范圍: 0~100 sccm
- MFC 2范圍: 0~200 sccm
- MFC 3范圍: 0~200 sccm
- MFC 4范圍: 0~500 sccm
- 氣路: 4 路
- 流量精度: 0.2%
- 進氣和出氣接口: 1/4" 卡套
- 一個混氣罐.
- 每路氣路都有一個獨立的不銹鋼針閥控制。
- 通過控制面板上的旋鈕來調節氣體流量. 請看下圖
- MFC 面板(點擊放大)
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| 真空泵 | - 安裝在移動架底部的機械泵，真空度達 10-3 Torr.
- 真空泵與手動擋板閥之間用KF25 快接與不銹鋼波紋管連接 .
- 數字真空表安裝在一端的法蘭上.
選擇: 可以配分子泵，真空度達 10-5 Torr
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作為基片用的25um厚的銅箔
(選配） | 生長石墨烯的銅箔 (150m length x 150mm width x 25um thickness)
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| 尺寸（mm) | 爐體: 550 x 380 x 520
移動架: 600x600x597 |
| 凈重 | 300 lb |
| 保修期 | 一年質保期 (耗材：如爐管，“O"型圈，和加熱元件等不在保修范圍內） |
| 認證 |  CE 認證
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| 國家 | 名稱：一種快速高溫退火爐 編號：ZL-2011-2-0077168.4 尊重創新、鄙視抄襲、侵權必究。 |
| 快速加熱冷卻的雙管CVD爐--操作視頻 |  |
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