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2016中國國際傳感器與微系統(MEMS)產品技術應用展覽會

2016中國國際傳感器與微系統(MEMS)產品技術應用展覽會
距離展會開幕還有
2016年04月21日
開展時間
上海世博展覽館
展會地點
2016年04月23日
結束時間
暫無
官方網站

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展會詳情
  2016年4月21-23日     上海世博展覽館(浦東新區國展路1099號)
  
  主辦單位:                                 支持單位:
  
  中華人民共和國商務部                       UNIDO聯合國工業發展組織
  
  中華人民共和國科學技術部                   UNDP聯合國開發計劃署
  
  中華人民共和國*局               WIPO世界知識產權組織
  
  上海市人民政府
  
  承辦單位:                                 中國•單位:
  
  上海市國際技術進出口促進中心               國家發展與改革委員會
  
  中國機電產品進出口商會                     國家環境保護總局
  
  東浩蘭生集團上海外經貿商務展覽有限公司     美國機械工程學會-中國
  
  企榮(上海)展覽服務有限公司               中國機械工業聯合會
  
  【展會概況】
  
  在這個信息速度堪比光速的社會,準確的大數據,才是智能的基礎。傳感器的出現,有利于獲取海量數據,賦予“智能”新的含義,讓一個漫長的“傳統工業”時代變得“鮮活”,步入感知世界。
  
  近年來,智能手環、谷歌眼鏡等電子穿戴設備熱賣,智能開關、溫控器等智能家居興起,無人機等航空航天器材備受資本青睞……傳感器已滲透到各個領域。傳感技術的進步不但可以提高智能時代的質量水平,更能有力地促進經濟發展、社會“智慧”。近年來,隨著世界范圍內信息技術的快速發展,傳感器與微系統(MEMS)產業是重中之重,發展傳感器與微系統(MEMS)技術尤為重要。為了傳感器與微系統(MEMS)技術健康良好的發展,推進傳感器與微系統(MEMS)技術在相關領域的應用,主辦單位邀請各相關單位特舉辦“2016中國國際傳感器與微系統(MEMS)產品技術應用展覽會”,旨在搭建國際傳感器與微系統(MEMS)技術的展示交流的平臺,促進上下游的合作,為加快發展我國戰略性傳感器與微系統(MEMS)技術做貢獻。
  
  【展會日程】
  
  報到布展:2016年4月19到20日                 展示交易:2016年4月21到23日
  
  開幕儀式:2016年4月21日上午10:00           閉幕撤展:2016年4月23下午3:00
  
  【展示范圍】
  
  1、MEMS器件
  
  光學MEMS:反射、光量開關、掃描、微型構件、微機械光學器件射頻MEMS、開關、振蕩器、過濾等;
  
  射頻MEMS:開關,振蕩器/諧振器、過濾等;
  
  MEMS傳感器:加速度計、軸傳感器、陀螺儀、壓力傳感器、重力傳感器、角速度傳感器、位移傳感器、觸摸傳感器、氣體傳感器、溫度傳感器、磁力計、磁傳感器、電子羅盤、濕度傳感器、流量傳感器、振動傳感器、電容傳感器、電學傳感器、傾角傳感器、機械傳感器、硅麥克風、圖像傳感器、MEMS慣性傳感器、MEMS微鏡、MEMS慣性測量單元、BAW濾波器和雙工器、微射流、微流引導、微感應器等;
  
  MEMS執行器:生物芯片、材料芯片、燈、泵、微流控芯片;
  
  MEMS電能:燃料電池,微發電機等;
  
  生物/化學MEMS:DNA/RNA技術,化學檢測等、MEMS晶振;
  
  高復合型MEMS:CMOS/MEMS,LSI/MEMS 一體化、MEMS IP等;
  
  MEMS應用:MEMS傳感器解決方案、麥克風,顯示等、超微型機械人裝置、微型工廠等、傳感器網絡、能量收集等;
  
  2、生物MEMS與醫療應用:MEMS技術在醫療處理及診斷方面的應用、DDS、納米膠囊;DNA&RNA技術、微反應器、微流引導、微流控芯片等;
  
  3、MEMS加工設備
  
  光刻設備:半導體激光直寫光刻、投影掃描光刻機等、無掩膜光刻設備、曝光系統、雙面測試系統;
  
  鍍膜設備:磁控濺射鍍膜設備、離子束濺射鍍膜設備、電子束蒸發鍍膜設備、多弧離子鍍膜設備、真空鍍膜設備、涂層設備、薄膜成形、汽相淀積、濺射、光罩繪圖機;
  
  沉積設備: GaN外延沉積用MOCVD設備;原子層沉積設備;等離子沉積設備;液態源沉積設備等;
  
  刻蝕設備:反離子刻蝕設備、ICP刻蝕設備、MEMS干法/濕法工藝系統、深反應離子刻蝕設備等;
  
  清洗設備設備:等離子清洗設備、UV-O3清洗設備、光掩膜清洗設備等;
  
  晶圓片鍵合:晶圓切割、芯片/導線焊接、涂膠、勻膠、去膠設備、烘烤、顯影、對準工藝設備、擴散爐、微成形(注射,熱壓)、離子注入機等其他生產設備等;
  
  分析與檢測儀器:光罩缺陷檢測、半導體檢測設備、封裝檢測、表面分析儀器、粗糙度儀、粗糙度檢測儀、圓度儀、質譜儀、硅片探針臺、掃描電子顯微鏡、薄膜厚度測量系統;顯微設備:光學顯微鏡、電子顯微鏡、探針顯微鏡、電子能譜儀;檢漏儀器、靜電負離子空氣凈化機;氣體分析及檢測、分析和測量系統等;
  
  4、MEMS代工/封測:MEMS中式平臺;仿真設計、原型測試、產品開發、量產;其他代工服務:圖案形成、薄膜形成、雷射、離子脈沖加工、噴鍍;封裝:MEMS封裝、裝配、測試和校準;
  
  【參展程序】
  
  展位順序分配原則:“先申請、先付款、先安排”。貴單位如欲報名參展,請索取《參展申請及合約表》,填寫申請表加章后傳真至組委會。在申請展位五個工作日內將參展費用全款或50%定金電匯至組委會*賬戶,余款將于開展45日前付清。
  
  1、展位收費:
  
  展位類型標準展位(9㎡)角標準展位(9㎡)光地(少36㎡)
  
  國內企業  15800元/展位 / RM17800元/展位 / RM1300元/㎡
  
  國外企業4000美元/個展位 4500美元/個展位500美元/㎡
  
  注:A. 標準展位配備:標準展臺(規格:3x3米),展位備注:高2.5米、三面圍板、展位地毯鋪設、中英文雙語楣板字、咨詢桌一張、折椅兩把、廢紙簍一個、射燈或日光燈兩個、220V 插座一個、展位每日保潔、會刊登錄、參展商證件。
  
  參展事項:
  
  1、請詳細填寫《參展報名表》,簽字并加蓋公章后傳真或郵寄至組委會。
  
  2、展位安排原則:“先申請、先預定、先付款、先確定”協辦單位可優先安排。
  
  3、有關展品運輸、酒店接待、展臺搭建等具體事項,將于會前三十天將《參展商手冊》寄送至各參展商。
  
  2016中國國際傳感器與微系統(MEMS)產品技術應用展覽會秘書處
  
  地  址:上海市青浦區華徐路888號1號樓7018室
  
  電  話:021-60421324              聯系人:柴明奎 18611082002
  
  傳  真:021-31575512              郵  箱:305767789@qq.com
  
 

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